| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-25页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 半导体光催化的原理及特点 | 第12-14页 |
| 1.3 二氧化钛的电子及结构性能 | 第14-17页 |
| 1.4 二氧化钛改性方法 | 第17-21页 |
| 1.4.1 贵金属沉积 | 第17-18页 |
| 1.4.2 离子掺杂 | 第18-20页 |
| 1.4.3 半导体复合 | 第20页 |
| 1.4.4 光敏化 | 第20-21页 |
| 1.4.5 降低晶粒尺寸 | 第21页 |
| 1.5 二氧化钛半导体薄膜的制备 | 第21-23页 |
| 1.5.1 液相法 | 第21-22页 |
| 1.5.2 化学气相沉积 | 第22-23页 |
| 1.5.3 物理气相沉积 | 第23页 |
| 1.6 本论文研究意义及主要内容 | 第23-25页 |
| 第二章 试验方法及检测仪器 | 第25-32页 |
| 2.1 实验仪器及试剂 | 第25-26页 |
| 2.1.1 实验仪器及试剂 | 第25-26页 |
| 2.2 实验方法 | 第26-27页 |
| 2.2.1 基片的清洗 | 第26-27页 |
| 2.2.2 薄膜的制备 | 第27页 |
| 2.3 材料表征仪器 | 第27-30页 |
| 2.3.1 X射线衍射（XRD） | 第27页 |
| 2.3.2 扫描电镜（SEM） | 第27-28页 |
| 2.3.3 原子力显微镜（AFM） | 第28页 |
| 2.3.4 透射电镜（TEM） | 第28页 |
| 2.3.5 X射线光电能谱（XPS） | 第28-29页 |
| 2.3.6 比表面积及孔结构（BET） | 第29页 |
| 2.3.7 红外傅里叶变换光谱（FT-IR） | 第29页 |
| 2.3.8 紫外-可见吸收光谱（UV-vis） | 第29-30页 |
| 2.4 光催化活性分析 | 第30-32页 |
| 第三章 TiO_2-SiO_2薄膜的制备及性能 | 第32-48页 |
| 3.1 实验部分 | 第32-33页 |
| 3.1.1 TiO_2-SiO_2溶胶前驱体的制备 | 第32页 |
| 3.1.2 TiO_2-SiO_2薄膜的制备 | 第32-33页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第33-46页 |
| 3.2.1 TiO_2-SiO_2薄膜的晶相结构分析 | 第33-35页 |
| 3.2.2 TiO_2-SiO_2薄膜的表面形貌 | 第35-36页 |
| 3.2.3 TiO_2-SiO_2薄膜的比表面积及孔结构 | 第36-37页 |
| 3.2.4 TiO_2-SiO_2薄膜的成膜机理分析 | 第37-38页 |
| 3.2.5 TiO_2-SiO_2薄膜掺杂元素的定性分析 | 第38-39页 |
| 3.2.6 TiO_2-SiO_2薄膜的光学特性 | 第39-40页 |
| 3.2.7 TiO_2-SiO_2薄膜的光催化性能评价 | 第40-45页 |
| 3.2.8 TiO_2-SiO_2薄膜的光催化机理讨论 | 第45-46页 |
| 3.3 本章小结 | 第46-48页 |
| 第四章 TiO_2-SiO_2薄膜粘附性能的改进 | 第48-55页 |
| 4.1 实验部分 | 第48-50页 |
| 4.1.1 N3390-N-0.05Fe-TiO_2溶胶前驱体的制备 | 第49页 |
| 4.1.2 N3390-N-0.05Fe-TiO_2薄膜的制备 | 第49页 |
| 4.1.3 N3390-N-0.05Fe-TiO_2薄膜的光催化实验 | 第49-50页 |
| 4.2 结果与讨论 | 第50-54页 |
| 4.2.1 N3390-N-0.05Fe-TiO_2薄膜的光学特性 | 第51-52页 |
| 4.2.2 N3390-N-0.05Fe-TiO_2薄膜的液相催化特性 | 第52-53页 |
| 4.2.3 N3390-N-0.05Fe-TiO_2薄膜的气相催化特性 | 第53-54页 |
| 4.3 本章小结 | 第54-55页 |
| 第五章 结论与展望 | 第55-57页 |
| 5.1 结论 | 第55-56页 |
| 5.2 展望 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 攻读学位期间参加的科研项目和成果 | 第68页 |
