| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-13页 |
| 1.1 引言 | 第8页 |
| 1.2 课题研究的背景内容 | 第8-10页 |
| 1.2.1 超光滑表面的概念 | 第8-9页 |
| 1.2.2 超精密微射流抛光加工技术 | 第9-10页 |
| 1.3 超光滑表面加工技术的发展现状 | 第10-11页 |
| 1.3.1 国外抛光技术研究现状 | 第10-11页 |
| 1.3.2 国内抛光技术研究现状 | 第11页 |
| 1.4 本文研究的目的及论文研究的内容 | 第11页 |
| 1.5 本论文章节安排 | 第11-13页 |
| 第二章 微射流悬浮喷液供给系统相关技术的研究 | 第13-26页 |
| 2.1 超光滑表面加工方法概述 | 第13-16页 |
| 2.1.1 直接接触抛光方法 | 第13-14页 |
| 2.1.2 准接触抛光方法 | 第14-16页 |
| 2.1.3 非接触抛光方法 | 第16页 |
| 2.2 半导体制冷原理 | 第16-22页 |
| 2.2.1 热电效应的产生 | 第17-18页 |
| 2.2.2 半导体制冷原理 | 第18-20页 |
| 2.2.3 半导体制冷工况的计算 | 第20页 |
| 2.2.4 最大产冷量工况 | 第20页 |
| 2.2.5 最大制冷效率工况 | 第20-21页 |
| 2.2.6 半导体制冷工况设计 | 第21-22页 |
| 2.3 微射流超光滑加工技术 | 第22-25页 |
| 2.3.1 纳米胶体微射流抛光 | 第22-23页 |
| 2.3.2 液流水力空化技术的作用机理及实际应用 | 第23-24页 |
| 2.3.3 纳米胶体空化射流抛光技术的提出 | 第24-25页 |
| 2.4 本章小结 | 第25-26页 |
| 第三章 微射流悬浮抛光液供给系统总体设计 | 第26-38页 |
| 3.1 微射流抛光供给系统温控硬件部分设计 | 第27-31页 |
| 3.1.1 热端散热方式简介 | 第27-29页 |
| 3.1.2 半导体制冷模块冷负荷理论计算 | 第29-30页 |
| 3.1.3 制冷模块结构设计 | 第30-31页 |
| 3.2 微射流抛光供给系统液压部分总体设计 | 第31-34页 |
| 3.3 微射流抛光系统外形结构设计 | 第34-37页 |
| 3.4 本章小结 | 第37-38页 |
| 第四章 系统电控部分及软件设计 | 第38-50页 |
| 4.1 微射流悬浮喷液供给系统电控设计 | 第38-47页 |
| 4.1.1 液压各工作模式说明及系统主控制量要求 | 第38-39页 |
| 4.1.2 抛光液供给电控系统模块划分 | 第39-42页 |
| 4.1.3 微射流悬浮喷液供给系统温控部分设计方法 | 第42-47页 |
| 4.2 系统软件设计 | 第47-49页 |
| 4.3 本章小结 | 第49-50页 |
| 第五章 系统性能测试与实验数据分析 | 第50-55页 |
| 5.1 微射流喷液供给系统温控实验分析 | 第50-52页 |
| 5.2 微射流喷液供给系统流量实验分析 | 第52-53页 |
| 5.3 微射流喷液供给系统压力稳定实验分析研究 | 第53-54页 |
| 5.4 本章小结 | 第54-55页 |
| 第六章 总结与展望 | 第55-57页 |
| 6.1 课题总结 | 第55-56页 |
| 6.2 课题展望 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-61页 |
| 在读期间的研究成果及参加的主要科研活动 | 第61页 |