中文摘要 | 第3-4页 |
Abstract | 第4-5页 |
第一章 绪论 | 第9-20页 |
1.1 CNTs概述 | 第9-12页 |
1.1.1 CNTs发现 | 第9-10页 |
1.1.2 CNTs结构及分类 | 第10页 |
1.1.3 CNTs性能及应用 | 第10-12页 |
1.2 CNTs阴极制备工艺 | 第12-14页 |
1.2.1 丝网印刷法 | 第12页 |
1.2.2 电泳沉积法 | 第12-13页 |
1.2.3 直接生长法 | 第13-14页 |
1.2.4 涂覆法 | 第14页 |
1.3 改善CNTs场发射性能方法 | 第14-18页 |
1.3.1 CNTs表面改性法 | 第15-16页 |
1.3.2 CNTs阴极后处理方法 | 第16-18页 |
1.4 论文研究内容 | 第18-20页 |
1.4.1 论文研究的目的及意义 | 第18页 |
1.4.2 论文研究的主要内容 | 第18-20页 |
第二章 化学镀理论及场发射理论 | 第20-28页 |
2.1 化学镀概述 | 第20-22页 |
2.1.1 化学镀原理 | 第20-21页 |
2.1.2 敏化、活化 | 第21页 |
2.1.3 化学镀Ni机理 | 第21-22页 |
2.2 场致发射理论 | 第22-25页 |
2.2.1 场致发射简史 | 第22-23页 |
2.2.2 CNTs场致发射 | 第23-24页 |
2.2.3 CNTs薄膜电子输运模型 | 第24-25页 |
2.3 测试原理 | 第25-28页 |
2.3.1 拉曼光谱(Raman spectra) | 第25-26页 |
2.3.2 X射线光电子能谱(XPS) | 第26页 |
2.3.3 透射电子显微镜(TEM) | 第26页 |
2.3.4 扫描电子显微镜(SEM) | 第26-27页 |
2.3.5 电子能谱(EDX) | 第27-28页 |
第三章 MWCNTs表面金属化改性 | 第28-46页 |
3.1 实验试剂及仪器 | 第28-29页 |
3.1.1 所用试剂 | 第28页 |
3.1.2 仪器设备 | 第28-29页 |
3.2 MWCNTs酸化 | 第29-33页 |
3.3 MWCNTs化学镀预处理 | 第33-35页 |
3.4 MWCNTs表面化学镀磁性金属Ni | 第35-45页 |
3.4.1 化学镀Ni液组成 | 第35页 |
3.4.2 化学镀Ni液的配制 | 第35-36页 |
3.4.3 无磁场辅助MWCNTs表面化学镀Ni | 第36-39页 |
3.4.4 磁场辅助MWCNTs表面化学镀Ni | 第39-45页 |
3.5 本章小结 | 第45-46页 |
第四章 MWCNTs阴极制备 | 第46-58页 |
4.1 主要材料和设备 | 第46-47页 |
4.1.1 主要仪器 | 第46页 |
4.1.2 实验材料 | 第46-47页 |
4.1.3 所用药品 | 第47页 |
4.2 MWCNTs阴极制备 | 第47-51页 |
4.2.1 MWCNTs浆料制备 | 第47-48页 |
4.2.2 丝网印刷工艺流程 | 第48-50页 |
4.2.3 MWCNTs阴极制备 | 第50-51页 |
4.3 MWCNTs/Ni阴极形貌表征 | 第51-53页 |
4.3.1 无磁场辅助热处理MWCNTs/Ni阴极表征 | 第51-52页 |
4.3.2 有磁场辅助热处理MWCNTs/Ni阴极表征 | 第52-53页 |
4.4 磁场对MWCNTs/Ni作用机制分析 | 第53-57页 |
4.4.1 单根MWCNTs/Ni在磁场受力建模 | 第54-55页 |
4.4.2 单根MWCNTs/Ni在磁场受力情况分析 | 第55-57页 |
4.5 本章小结 | 第57-58页 |
第五章 MWCNTs/Ni阴极场发射性能研究 | 第58-70页 |
5.1 场发射性能测试系统简介 | 第58-59页 |
5.2 MWCNTs场发射性能指标 | 第59-60页 |
5.3 MWCNTs阴极场发射性能研究 | 第60-68页 |
5.3.1 不同酸化时间对MWCNTs阴极场发射性能的影响 | 第60-63页 |
5.3.2 磁场辅助热处理MWCNTs阴极场发射性能研究 | 第63-65页 |
5.3.3 不同磁场强度辅助热处理MWCNTs/Ni阴极场发射性能研究 | 第65-68页 |
5.4 磁场辅助热处理对提高阴极场发射性能作用 | 第68-69页 |
5.5 本章小结 | 第69-70页 |
结论 | 第70-73页 |
参考文献 | 第73-80页 |
致谢 | 第80-81页 |
个人简历 | 第81-82页 |
攻读硕士期间的研究成果及发表的学术论文 | 第82-83页 |