| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第1章 绪论 | 第13-23页 |
| 1.1 研究背景 | 第13-14页 |
| 1.2 ZnO的性质 | 第14-17页 |
| 1.2.1 晶体结构和基本性质 | 第14-16页 |
| 1.2.2 ZnO的电子能带及固有缺陷 | 第16-17页 |
| 1.3 ZnO薄膜的应用 | 第17-19页 |
| 1.3.1 压电器件 | 第18页 |
| 1.3.2 太阳能电池 | 第18-19页 |
| 1.3.3 气敏元件 | 第19页 |
| 1.4 ZnO薄膜制备技术 | 第19-21页 |
| 1.4.1 分子束外延法 | 第19页 |
| 1.4.2 磁控溅射法 | 第19-20页 |
| 1.4.3 脉冲激光沉积法 | 第20页 |
| 1.4.4 金属有机气相化学沉积法 | 第20-21页 |
| 1.5 本论文的研究目的及意义 | 第21-23页 |
| 第2章 实验原理与表征方法 | 第23-35页 |
| 2.1 溶胶-凝胶技术基本原理 | 第23-26页 |
| 2.1.1 Sol-Gel法制备ZnO薄膜的生长机制 | 第23-25页 |
| 2.1.2 Sol-Gel法的工艺过程 | 第25-26页 |
| 2.2 化学浴沉积法制备ZnO薄膜的基本原理 | 第26-28页 |
| 2.3 表征方法及基本原理 | 第28-35页 |
| 2.3.1 X射线衍射分析 | 第28-30页 |
| 2.3.2 扫描电子显微镜分析 | 第30-31页 |
| 2.3.3 原子力显微镜分析 | 第31-32页 |
| 2.3.4 表面润湿性分析 | 第32-33页 |
| 2.3.5 光致发光分析 | 第33页 |
| 2.3.6 紫外-可见光光谱分析技术 | 第33-35页 |
| 第3章 ZnO非极性薄膜的制备研究 | 第35-69页 |
| 3.0 前言 | 第35页 |
| 3.1 化学试剂与实验设备 | 第35-36页 |
| 3.1.1 化学试剂 | 第35-36页 |
| 3.1.2 实验设备 | 第36页 |
| 3.2 种子层的影响 | 第36-53页 |
| 3.2.1 烧结温度 | 第36-40页 |
| 3.2.2 前驱液中MEA/Zn~(2+) | 第40-45页 |
| 3.2.3 旋涂次数 | 第45-47页 |
| 3.2.4 陈化温度 | 第47-50页 |
| 3.2.5 溶剂种类 | 第50-53页 |
| 3.2.6 小结 | 第53页 |
| 3.3 化学浴过程的影响 | 第53-66页 |
| 3.3.1 醇的影响 | 第53-61页 |
| 3.3.1.1 醇的种类 | 第53-56页 |
| 3.3.1.2 醇的含量 | 第56-61页 |
| 3.3.2 非极性辅助剂的影响 | 第61-66页 |
| 3.3.2.1 非极性辅助剂的种类 | 第61-63页 |
| 3.3.2.2 非极性辅助剂的含量 | 第63-66页 |
| 3.3.3 小结 | 第66页 |
| 3.4 种子层和化学浴过程交互影响 | 第66-69页 |
| 第4章 ZnO择优取向生长薄膜物性研究 | 第69-77页 |
| 4.1 晶体结构及表面形貌特性 | 第69-73页 |
| 4.2 表面润湿性 | 第73-74页 |
| 4.3 光学性能 | 第74-76页 |
| 4.3.1 透射率 | 第74-75页 |
| 4.3.2 光致发光 | 第75-76页 |
| 4.4 小结 | 第76-77页 |
| 第5章 结论与展望 | 第77-79页 |
| 5.1 结论 | 第77-78页 |
| 5.2 展望 | 第78-79页 |
| 参考文献 | 第79-85页 |
| 致谢 | 第85页 |