摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第10-33页 |
1.1 微纳米加工技术的发展现状 | 第11-15页 |
1.1.1 "自上而下"的微纳米加工技术 | 第11-14页 |
1.1.2 "自下而上"的微纳米自组织技术 | 第14-15页 |
1.2 聚合物薄膜的退火自组织行为 | 第15-18页 |
1.3 聚合物薄膜在受限情况下的退火行为 | 第18-21页 |
1.4 表面增强拉曼散射现象 | 第21-22页 |
1.5 本文的主要内容 | 第22-24页 |
参考文献 | 第24-33页 |
第二章 PS/PMMA共混薄膜退火自组织行为 | 第33-45页 |
2.1 引言 | 第33-34页 |
2.2 实验方法 | 第34页 |
2.3 PS/PMMA共混薄膜相分离微结构 | 第34-39页 |
2.3.1 膜厚对PS微滴尺寸的影响 | 第34-35页 |
2.3.2 PS/PMMA配比对相分离行为的影响 | 第35-39页 |
2.4 PS/PMMA共混薄膜失稳分解中的特征尺度 | 第39-41页 |
2.4.1 特征尺度随时间的变化 | 第39-40页 |
2.4.2 PS/PMMA共混薄膜膜厚对特征尺度的影响 | 第40-41页 |
2.5 本章小结 | 第41-43页 |
参考文献 | 第43-45页 |
第三章 光学共振结构的制备及其在SERS中的应用 | 第45-63页 |
3.1 引言 | 第45-46页 |
3.2 实验方法 | 第46-47页 |
3.3 光学共振结构的形貌 | 第47-50页 |
3.4 共振结构的光学性质 | 第50-53页 |
3.5 共振结构在表面增强拉曼光谱中的应用 | 第53-56页 |
3.6 以PMMA环结构为模板制备金属共振结构 | 第56-59页 |
3.7 本章小结 | 第59-60页 |
参考文献 | 第60-63页 |
第四章 图案衬底上PS/PMMA有序相分离结构的产生机制 | 第63-82页 |
4.1 引言 | 第63页 |
4.2 实验方法 | 第63-65页 |
4.3 周期性PS微滴的形成及结构分析 | 第65-70页 |
4.4 衬底空洞周期及初始PS/PMMA薄膜膜厚的影响 | 第70-71页 |
4.5 PS微滴阵列的形成机制分析 | 第71-76页 |
4.5.1 PS微滴之间的吸引相互作用 | 第72-74页 |
4.5.2 PS微滴与衬底上孔洞边界之间的相互作用 | 第74-76页 |
4.6 周期孔洞内的PS、PMMA分布 | 第76-78页 |
4.7 本章小结 | 第78-79页 |
参考文献 | 第79-82页 |
第五章 图案衬底上PS薄膜的退火行为 | 第82-89页 |
5.1 引言 | 第82页 |
5.2 实验方法 | 第82-83页 |
5.3 周期衬底上PS薄膜退火的原位观测 | 第83页 |
5.4 膜厚对PS微滴阵列结构的影响 | 第83-86页 |
5.5 本章小结 | 第86-87页 |
参考文献 | 第87-89页 |
第六章 总结与展望 | 第89-92页 |
6.1 总结 | 第89-90页 |
6.2 展望 | 第90-92页 |
致谢 | 第92-93页 |
研究生期间发表的论文 | 第93-94页 |
研究生期间参加的学术会议 | 第94-95页 |