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聚合物薄膜退火自组织结构的形成机理及其应用

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
第一章 绪论第10-33页
    1.1 微纳米加工技术的发展现状第11-15页
        1.1.1 "自上而下"的微纳米加工技术第11-14页
        1.1.2 "自下而上"的微纳米自组织技术第14-15页
    1.2 聚合物薄膜的退火自组织行为第15-18页
    1.3 聚合物薄膜在受限情况下的退火行为第18-21页
    1.4 表面增强拉曼散射现象第21-22页
    1.5 本文的主要内容第22-24页
    参考文献第24-33页
第二章 PS/PMMA共混薄膜退火自组织行为第33-45页
    2.1 引言第33-34页
    2.2 实验方法第34页
    2.3 PS/PMMA共混薄膜相分离微结构第34-39页
        2.3.1 膜厚对PS微滴尺寸的影响第34-35页
        2.3.2 PS/PMMA配比对相分离行为的影响第35-39页
    2.4 PS/PMMA共混薄膜失稳分解中的特征尺度第39-41页
        2.4.1 特征尺度随时间的变化第39-40页
        2.4.2 PS/PMMA共混薄膜膜厚对特征尺度的影响第40-41页
    2.5 本章小结第41-43页
    参考文献第43-45页
第三章 光学共振结构的制备及其在SERS中的应用第45-63页
    3.1 引言第45-46页
    3.2 实验方法第46-47页
    3.3 光学共振结构的形貌第47-50页
    3.4 共振结构的光学性质第50-53页
    3.5 共振结构在表面增强拉曼光谱中的应用第53-56页
    3.6 以PMMA环结构为模板制备金属共振结构第56-59页
    3.7 本章小结第59-60页
    参考文献第60-63页
第四章 图案衬底上PS/PMMA有序相分离结构的产生机制第63-82页
    4.1 引言第63页
    4.2 实验方法第63-65页
    4.3 周期性PS微滴的形成及结构分析第65-70页
    4.4 衬底空洞周期及初始PS/PMMA薄膜膜厚的影响第70-71页
    4.5 PS微滴阵列的形成机制分析第71-76页
        4.5.1 PS微滴之间的吸引相互作用第72-74页
        4.5.2 PS微滴与衬底上孔洞边界之间的相互作用第74-76页
    4.6 周期孔洞内的PS、PMMA分布第76-78页
    4.7 本章小结第78-79页
    参考文献第79-82页
第五章 图案衬底上PS薄膜的退火行为第82-89页
    5.1 引言第82页
    5.2 实验方法第82-83页
    5.3 周期衬底上PS薄膜退火的原位观测第83页
    5.4 膜厚对PS微滴阵列结构的影响第83-86页
    5.5 本章小结第86-87页
    参考文献第87-89页
第六章 总结与展望第89-92页
    6.1 总结第89-90页
    6.2 展望第90-92页
致谢第92-93页
研究生期间发表的论文第93-94页
研究生期间参加的学术会议第94-95页

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