| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-16页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第10-11页 |
| 1.2 国内外研究现状及研究趋势 | 第11-14页 |
| 1.2.1 脉冲涡流检测技术的国内外研究现状 | 第11-12页 |
| 1.2.2 涂层厚度脉冲涡流检测技术的国内外研究现状 | 第12-13页 |
| 1.2.3 涂层厚度脉冲涡流检测技术的研究趋势 | 第13-14页 |
| 1.3 论文的研究内容 | 第14页 |
| 1.4 论文的结构安排 | 第14-16页 |
| 第二章 脉冲涡流检测的理论基础及有限元仿真分析 | 第16-27页 |
| 2.1 脉冲涡流检测的理论基础 | 第16-19页 |
| 2.1.1 脉冲涡流检测原理 | 第16-17页 |
| 2.1.2 脉冲涡流检测的趋肤效应 | 第17-19页 |
| 2.2 脉冲涡流检测的有限元仿真分析 | 第19-22页 |
| 2.2.1 脉冲涡流检测的有限元建模简化 | 第19页 |
| 2.2.2 脉冲涡流检测的有限元模型建立 | 第19-22页 |
| 2.3 脉冲涡流检测的影响因素分析 | 第22-26页 |
| 2.3.1 激励产生方式对检测结果的影响 | 第23-25页 |
| 2.3.2 激励频率对检测结果的影响 | 第25页 |
| 2.3.3 激励电压对检测结果的影响 | 第25-26页 |
| 2.4 本章小结 | 第26-27页 |
| 第三章 单涂层厚度检测方法研究 | 第27-57页 |
| 3.1 多涂层脉冲涡流厚度检测基本原理 | 第27-30页 |
| 3.1.1 多涂层脉冲涡流厚度检测的解析模型 | 第27-29页 |
| 3.1.2 多涂层厚度检测的函数逼近模型 | 第29-30页 |
| 3.2 单涂层厚度和电导率变化对检测的影响 | 第30-34页 |
| 3.2.1 单涂层模型参数 | 第30页 |
| 3.2.2 涂层厚度变化对检测的影响 | 第30-31页 |
| 3.2.3 涂层电导率变化对检测的影响 | 第31-34页 |
| 3.3 电导率已知下的单涂层厚度检测方法研究 | 第34-35页 |
| 3.4 电导率未知下的单涂层厚度检测方法研究 | 第35-39页 |
| 3.4.1 基于解方程法的单涂层厚度检测 | 第35-38页 |
| 3.4.2 基于解耦法的单涂层厚度检测 | 第38-39页 |
| 3.5 基体为磁性材料时的单涂层厚度检测方法 | 第39-48页 |
| 3.5.1 基体磁导率变化对检测的影响 | 第39-42页 |
| 3.5.2 涂层电导率变化对检测的影响 | 第42-47页 |
| 3.5.3 涂层厚度检测方法分析 | 第47-48页 |
| 3.6 单涂层厚度检测的实验验证 | 第48-55页 |
| 3.6.1 脉冲涡流检测实验平台的搭建 | 第49-53页 |
| 3.6.2 单涂层厚度检测实验验证 | 第53-55页 |
| 3.7 单涂层下解方程法和解耦法反演精度对比分析 | 第55-56页 |
| 3.8 本章小结 | 第56-57页 |
| 第四章 多涂层厚度检测方法研究 | 第57-78页 |
| 4.1 两涂层下厚度和电导率变化对检测的影响 | 第57-64页 |
| 4.1.1 两涂层模型参数 | 第57-58页 |
| 4.1.2 本层厚度变化对其它层厚度检测的影响 | 第58-61页 |
| 4.1.3 各层电导率变化对厚度检测的影响 | 第61-64页 |
| 4.2 电导率已知情况下的两涂层厚度检测方法研究 | 第64-68页 |
| 4.2.1 基于解方程法的两涂层厚度检测 | 第65-66页 |
| 4.2.2 基于解耦法的两涂层厚度检测 | 第66-68页 |
| 4.3 电导率未知下的两涂层厚度检测方法研究 | 第68-71页 |
| 4.3.1 基于解方程法的两涂层厚度检测 | 第68-70页 |
| 4.3.2 基于解耦法的两涂层厚度检测 | 第70-71页 |
| 4.4 三层以上涂层厚度检测方法研究 | 第71-73页 |
| 4.4.1 三层涂层厚度检测方法 | 第71-73页 |
| 4.4.2 四层涂层厚度检测方法 | 第73页 |
| 4.5 两涂层厚度检测实验验证 | 第73-75页 |
| 4.6 两涂层下解方程法和解耦法反演精度对比分析 | 第75-77页 |
| 4.7 本章小结 | 第77-78页 |
| 第五章 总结与展望 | 第78-80页 |
| 5.1 全文总结 | 第78-79页 |
| 5.2 工作展望 | 第79-80页 |
| 致谢 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-84页 |