| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-20页 |
| 1.1 光伏电池简介 | 第9-12页 |
| 1.1.1 光伏电池发展历史 | 第9-10页 |
| 1.1.2 光伏电池工作原理 | 第10页 |
| 1.1.3 光伏电池分类 | 第10-12页 |
| 1.2 铝诱导晶化非晶硅薄膜 | 第12-15页 |
| 1.2.1 铝诱导晶化非晶硅原理 | 第12-14页 |
| 1.2.2 铝诱导晶化非晶硅研究现状 | 第14-15页 |
| 1.3 CuO薄膜光伏材料 | 第15-18页 |
| 1.3.1 CuO的特性 | 第16页 |
| 1.3.2 CuO薄膜的制备方法 | 第16-17页 |
| 1.3.3 CuO薄膜掺杂的研究现状 | 第17-18页 |
| 1.4 本论文研究内容 | 第18-20页 |
| 第2章 退火温度对铝诱导非晶硅薄膜晶化的影响 | 第20-32页 |
| 2.1 引言 | 第20页 |
| 2.2 样品制备 | 第20-24页 |
| 2.2.1 PECVD沉积技术 | 第20-22页 |
| 2.2.2 实验过程 | 第22-23页 |
| 2.2.3 主要表征技术 | 第23-24页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第24-30页 |
| 2.3.1 退火温度对铝诱导晶化非晶硅薄膜结构特性的影响 | 第24-27页 |
| 2.3.2 退火温度对铝诱导晶化非晶硅薄膜光学特性的影响 | 第27-30页 |
| 2.4 本章小结 | 第30-32页 |
| 第3章 N_2气氛中退火对Li掺杂CuO薄膜特性的影响 | 第32-46页 |
| 3.1 引言 | 第32页 |
| 3.2 样品制备 | 第32-36页 |
| 3.2.1 脉冲激光沉积技术 | 第32-34页 |
| 3.2.2 实验过程 | 第34-36页 |
| 3.2.3 主要表征技术 | 第36页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第36-45页 |
| 3.3.1 N_2气氛中退火温度对Li掺杂CuO薄膜结构特性的影响 | 第36-38页 |
| 3.3.2 N_2气氛中退火温度对Li掺杂CuO薄膜电学特性的影响 | 第38-40页 |
| 3.3.3 N_2气氛中退火温度对Li掺杂CuO薄膜光学特性的影响 | 第40-41页 |
| 3.3.4 N_2气氛中退火时间对Li掺杂CuO薄膜结构特性的影响 | 第41-42页 |
| 3.3.5 N_2气氛中退火时间对Li掺杂CuO薄膜电学特性的影响 | 第42-44页 |
| 3.3.6 N_2气氛中退火时间对Li掺杂CuO薄膜光学特性的影响 | 第44-45页 |
| 3.4 本章小结 | 第45-46页 |
| 第4章 O_2气氛中退火对Li掺杂CuO薄膜特性的影响 | 第46-56页 |
| 4.1 引言 | 第46页 |
| 4.2 样品制备 | 第46页 |
| 4.3 结果讨论与分析 | 第46-54页 |
| 4.3.1 O_2气氛中退火温度对Li掺杂CuO薄膜结构特性的影响 | 第46-48页 |
| 4.3.2 O_2气氛中退火温度对Li掺杂CuO薄膜电学特性的影响 | 第48-49页 |
| 4.3.3 O_2气氛中退火温度对Li掺杂CuO薄膜光学特性的影响 | 第49-51页 |
| 4.3.4 O_2气氛中退火时间对Li掺杂CuO薄膜结构特性的影响 | 第51页 |
| 4.3.5 O_2气氛中退火时间对Li掺杂CuO薄膜电学特性的影响 | 第51-53页 |
| 4.3.6 O_2气氛中退火时间对Li掺杂CuO薄膜光学特性的影响 | 第53-54页 |
| 4.4 本章小结 | 第54-56页 |
| 第5章 总结 | 第56-60页 |
| 5.1 本论文研究内容总结 | 第56-57页 |
| 5.2 研究生期间其他研究工作 | 第57页 |
| 5.3 展望 | 第57-60页 |
| 参考文献 | 第60-68页 |
| 致谢 | 第68-70页 |
| 攻读硕士学位期间的研究成果 | 第70页 |
