| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-22页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 超级电容器概述 | 第11-13页 |
| 1.2.1 超级电容器的分类 | 第11-12页 |
| 1.2.2 超级电容器的组成 | 第12-13页 |
| 1.2.3 超级电容器的优缺点 | 第13页 |
| 1.2.4 超级电容器的应用 | 第13页 |
| 1.3 双电层电容器的概述 | 第13-17页 |
| 1.3.1 双电层电容器的原理 | 第13-14页 |
| 1.3.2 双电层电容器的电极材料 | 第14-17页 |
| 1.4 炭电极材料 | 第17-18页 |
| 1.4.1 聚合物炭前驱体材料 | 第17页 |
| 1.4.2 炭材料的制备过程 | 第17-18页 |
| 1.5 氮掺杂炭材料 | 第18-21页 |
| 1.5.1 后处理法 | 第19页 |
| 1.5.2 采用含氮炭前驱体材料 | 第19-21页 |
| 1.6 选题依据和研究内容 | 第21-22页 |
| 第二章 甘脲基多孔炭的制备及其电化学性能 | 第22-39页 |
| 2.1 引言 | 第22页 |
| 2.2 实验部分 | 第22-27页 |
| 2.2.1 实验原料 | 第22页 |
| 2.2.2 实验仪器 | 第22-23页 |
| 2.2.3 甘脲的合成原理与制备 | 第23-24页 |
| 2.2.4 甘脲基多孔炭的制备 | 第24页 |
| 2.2.5 结构表征 | 第24-26页 |
| 2.2.6 电化学性能测试 | 第26-27页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第27-37页 |
| 2.3.1 甘脲的红外分析 | 第27页 |
| 2.3.2 甘脲基多孔炭的SEM照片 | 第27-30页 |
| 2.3.3 甘脲基多孔炭的XRD衍射分析 | 第30页 |
| 2.3.4 甘脲基多孔炭的孔结构表征 | 第30-31页 |
| 2.3.5 甘脲基多孔炭的XPS与元素分析 | 第31-32页 |
| 2.3.6 炭化温度对甘脲基多孔炭电容性能的影响 | 第32-35页 |
| 2.3.7 活化温度对甘脲基多孔炭电容性能的影响 | 第35-37页 |
| 2.3.8 甘脲基多孔炭的循环稳定性 | 第37页 |
| 2.4 本章小结 | 第37-39页 |
| 第三章 四羟甲基甘脲基多孔炭的制备及其电化学性能 | 第39-55页 |
| 3.1 引言 | 第39页 |
| 3.2 实验部分 | 第39-40页 |
| 3.2.1 实验原料 | 第39-40页 |
| 3.2.2 实验仪器 | 第40页 |
| 3.2.3 四羟甲基甘脲的合成原理和制备 | 第40页 |
| 3.2.4 四羟甲基甘脲基多孔炭的制备 | 第40页 |
| 3.2.5 结构表征 | 第40页 |
| 3.2.6 电化学性能测试 | 第40页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第40-53页 |
| 3.3.1 四羟甲基甘脲的红外分析 | 第40-41页 |
| 3.3.2 四羟甲基甘脲基多孔炭的SEM照片 | 第41-43页 |
| 3.3.3 四羟甲基甘脲基多孔炭的TEM照片 | 第43页 |
| 3.3.4 四羟甲基甘脲基多孔炭的XRD衍射分析 | 第43-44页 |
| 3.3.5 四羟甲基甘脲基多孔炭的孔结构表征 | 第44-45页 |
| 3.3.6 四羟甲基甘脲基多孔炭的XPS与元素分析 | 第45-47页 |
| 3.3.7 炭化温度对四羟甲基甘脲基多孔炭电容性能的影响 | 第47-49页 |
| 3.3.8 活化温度对四羟甲基甘脲基多孔炭电容性能的影响 | 第49-51页 |
| 3.3.9 活化时间对甘脲基多孔炭电容性能的影响 | 第51-53页 |
| 3.3.10 四羟甲基甘脲基多孔炭的循环稳定性 | 第53页 |
| 3.4 本章小结 | 第53-55页 |
| 第四章 四甲氧甲基甘脲基多孔炭的制备及其电化学性能 | 第55-69页 |
| 4.1 引言 | 第55页 |
| 4.2 实验部分 | 第55-56页 |
| 4.2.1 实验原料 | 第55页 |
| 4.2.2 实验仪器 | 第55-56页 |
| 4.2.3 四甲氧甲基甘脲的合成原理与制备 | 第56页 |
| 4.2.5 四甲氧甲基甘脲基多孔炭的制备 | 第56页 |
| 4.2.6 结构表征 | 第56页 |
| 4.2.7 电化学性能测试 | 第56页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第56-67页 |
| 4.3.1 四甲氧甲基甘脲的红外分析 | 第56-57页 |
| 4.3.2 四甲氧甲基甘脲基多孔炭的SEM照片 | 第57-59页 |
| 4.3.3 四甲氧甲基甘脲基多孔炭的XRD衍射分析 | 第59-60页 |
| 4.3.4 四甲氧甲基甘脲基多孔炭的孔结构表征 | 第60-61页 |
| 4.3.5 四甲氧甲基甘脲基多孔炭的XPS与元素分析 | 第61-62页 |
| 4.3.6 碱炭比对四甲氧甲基甘脲基多孔炭电容性能的影响 | 第62-64页 |
| 4.3.7 炭化温度对四甲氧甲基甘脲基多孔炭电容性能的影响 | 第64-65页 |
| 4.3.8 活化温度对四甲氧甲基甘脲基多孔炭电容性能的影响 | 第65-67页 |
| 4.4 本章小结 | 第67-69页 |
| 结论 | 第69-71页 |
| 参考文献 | 第71-76页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第76-77页 |
| 致谢 | 第77页 |
