多孔硅器件表面瓦斯气体吸附动力学研究
| 摘要 | 第1-3页 |
| ABSTRACT | 第3-7页 |
| 1 绪论 | 第7-12页 |
| ·研究背景及意义 | 第7页 |
| ·国内外研究现状 | 第7-10页 |
| ·多孔硅表面研究现状 | 第7-8页 |
| ·硅表面吸附研究现状 | 第8-10页 |
| ·存在不足 | 第10页 |
| ·主要研究内容 | 第10-12页 |
| 2 吸附理论与实验原理 | 第12-25页 |
| ·多孔硅表面吸附 | 第12-13页 |
| ·气体吸附 | 第12-13页 |
| ·多孔硅 | 第13页 |
| ·计算方法 | 第13-20页 |
| ·量子力学理论 | 第13页 |
| ·密度泛函理论 | 第13-18页 |
| ·Bolch定理 | 第18页 |
| ·贋势近似 | 第18-20页 |
| ·气相色谱仪 | 第20-21页 |
| ·气相色谱原理 | 第20页 |
| ·气相色谱仪 | 第20-21页 |
| ·物理化学吸附仪 | 第21页 |
| ·X-射线衍射仪 | 第21-23页 |
| ·衍射原理 | 第21-22页 |
| ·X射线衍射仪 | 第22-23页 |
| ·原子力显微镜 | 第23-24页 |
| ·实验原理 | 第23页 |
| ·原子力显微镜 | 第23-24页 |
| ·使用软件的介绍 | 第24-25页 |
| 3 表面物理吸附 | 第25-53页 |
| ·甲烷物理吸附 | 第25-26页 |
| ·吸附-气相色谱分析 | 第26-31页 |
| ·吸附-气相色谱实验 | 第26-28页 |
| ·气相色谱图分析 | 第28-31页 |
| ·物理吸附模型 | 第31-50页 |
| ·硅表面模型 | 第33-35页 |
| ·吸附等温线模拟 | 第35-37页 |
| ·甲烷在Si(111)表面物理吸附 | 第37-40页 |
| ·甲烷在Si(311)物理吸附 | 第40-45页 |
| ·不同覆盖率甲烷物理吸附 | 第45-47页 |
| ·CO在Si(311)物理吸附 | 第47-49页 |
| ·表面竞争吸附 | 第49-50页 |
| ·硅表面晶格结构 | 第50-51页 |
| ·硅表面形貌 | 第51-53页 |
| 4 表面化学吸附 | 第53-69页 |
| ·甲烷化学吸附 | 第53-54页 |
| ·甲基在Si(111)表面化学吸附 | 第54-56页 |
| ·甲基在Si(110)表面化学吸附 | 第56-58页 |
| ·甲烷在Si(110)表面化学吸附 | 第58-62页 |
| ·甲烷在Si(311)表面化学吸附 | 第62-65页 |
| ·CO在Si(311)表面化学吸附 | 第65-69页 |
| 5 总结与展望 | 第69-71页 |
| ·研究结论 | 第69-70页 |
| ·研究展望 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-77页 |
| 附录 攻读硕士学位期间所发表的论文 | 第77页 |
