氮化镓、钒酸铋及二氧化锡光催化剂的过渡金属离子掺杂与性能研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| ·前言 | 第10页 |
| ·光催化技术简介 | 第10-12页 |
| ·光催化的历史发展 | 第10-11页 |
| ·半导体光催化的基本原理 | 第11页 |
| ·影响光催化性能的主要因素 | 第11-12页 |
| ·常见的光催化剂 | 第12-16页 |
| ·氮化镓 | 第12-14页 |
| ·钒酸铋 | 第14-15页 |
| ·二氧化锡 | 第15-16页 |
| ·光催化剂的光催化性能改性方法 | 第16-18页 |
| ·金属掺杂 | 第16-17页 |
| ·非金属掺杂 | 第17页 |
| ·与其他半导体复合 | 第17-18页 |
| ·本文研究内容简介 | 第18-22页 |
| 第二章 氮化镓的掺杂及光催化性能研究 | 第22-41页 |
| ·前言 | 第22页 |
| ·实验部分 | 第22-25页 |
| ·实验器材 | 第22-23页 |
| ·未掺杂样品的制备 | 第23页 |
| ·金属离子掺杂样品的制备 | 第23-24页 |
| ·产物的表征 | 第24页 |
| ·产物的光催化性能测试 | 第24-25页 |
| ·结果与讨论 | 第25-40页 |
| ·GaN产物的XRD表征 | 第25-27页 |
| ·GaN产物的SEM表征 | 第27-29页 |
| ·GaN产物的EDS测试 | 第29-31页 |
| ·GaN产物的固体紫外—可见吸收光谱分析 | 第31-33页 |
| ·GaN产物的光催化性能测试 | 第33-40页 |
| ·本章结论 | 第40-41页 |
| 第三章 钒酸铋的掺杂与光催化性能研究 | 第41-58页 |
| ·前言 | 第41页 |
| ·实验部分 | 第41-44页 |
| ·实验器材 | 第41-42页 |
| ·未掺杂样品的制备 | 第42页 |
| ·金属离子掺杂样品的制备 | 第42页 |
| ·具有特殊形貌样品的制备 | 第42页 |
| ·产物的表征 | 第42-43页 |
| ·产物的光催化性能测试 | 第43-44页 |
| ·结果与讨论 | 第44-57页 |
| ·产物的XRD表征 | 第44-47页 |
| ·产物的SEM表征 | 第47-50页 |
| ·BiVO_4产物的EDS测试 | 第50-52页 |
| ·BiVO_4产物的固体紫外—可见吸收光谱分析 | 第52-53页 |
| ·产物的光催化性能 | 第53-57页 |
| ·本章结论 | 第57-58页 |
| 第四章 二氧化锡的掺杂及光催化性能研究 | 第58-75页 |
| ·前言 | 第58页 |
| ·实验部分 | 第58-60页 |
| ·实验器材 | 第58-59页 |
| ·未掺杂样品的制备 | 第59页 |
| ·金属离子掺杂样品的制备 | 第59页 |
| ·产物的表征 | 第59-60页 |
| ·产物的光催化性能测试 | 第60页 |
| ·结果与讨论 | 第60-74页 |
| ·SnO_2产物的XRD表征 | 第60-61页 |
| ·SnO_2产物的SEM表征 | 第61-64页 |
| ·SnO_2产物的EDS测试 | 第64-66页 |
| ·SnO_2产物的固体紫外—可见吸收光谱分析 | 第66-67页 |
| ·SnO_2产物的光催化性能测试 | 第67-74页 |
| ·本章结论 | 第74-75页 |
| 第五章 全文总结 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-84页 |
| 致谢 | 第84-85页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文与取得的成果 | 第85页 |
