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缺陷诱导非活性基底表面化学镀金属层研究

致谢第1-8页
摘要第8-9页
ABSTRACT第9-16页
第一章 绪论第16-32页
   ·引言第16页
   ·非活性基底表面金属化研究第16-21页
     ·真空镀膜法第16-17页
     ·热喷涂法第17-20页
     ·电镀法第20页
     ·其他表面金属化方法第20-21页
   ·化学镀技术研究第21-29页
     ·贵金属活化第22-23页
     ·现代技术辅助贵金属活化第23-25页
     ·非贵金属活化第25-29页
   ·影响化学镀的因素第29-30页
     ·pH对化学镀铜的影响第30页
     ·温度对化学镀铜的影响第30页
     ·沉积速度对化学镀铜的影响第30页
     ·其他成分对化学镀铜的影响第30页
   ·本论文研究意义及内容第30-32页
     ·研究意义第30-31页
     ·研究内容第31-32页
第二章 实验方案与性能测试方法第32-39页
   ·实验试剂、仪器与装置第32-34页
   ·实验方案第34-38页
     ·塑料第34-36页
     ·Al_2O_3陶瓷基板第36-37页
     ·SiC陶瓷粉体第37-38页
   ·形貌与性能表征第38-39页
第三章 缺陷诱导塑料表面化学镀金属铜第39-44页
   ·引言第39页
   ·缺陷诱导塑料表面化学镀第39-43页
   ·小结第43-44页
第四章 缺陷诱导陶瓷表面化学镀金属层及后续处理第44-52页
   ·引言第44页
   ·新型活化法辅助陶瓷表面化学镀第44-46页
   ·二次化学镀第46-47页
     ·第一次化学镀之后的表面形貌分析第46页
     ·二次化学镀表面形貌分析第46-47页
   ·镀后热处理第47-50页
   ·小结第50-52页
第五章 缺陷诱导SiC陶瓷粉体表面化学镀镍层第52-57页
   ·引言第52-53页
   ·缺陷诱导SiC陶瓷粉体化学镀第53-56页
   ·小结第56-57页
第六章 全文总结与展望第57-59页
   ·全文总结第57-58页
   ·展望第58-59页
参考文献第59-64页
攻读硕士期间的学术活动及成果情况第64-65页

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