摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-13页 |
1 绪论 | 第13-29页 |
·半导体光催化的发展 | 第14-18页 |
·半导体光催化剂的形成与发展 | 第14-15页 |
·半导体光催化剂的机理分析 | 第15-17页 |
·半导体光催化剂的改性 | 第17-18页 |
·石墨烯基复合材料 | 第18-24页 |
·石墨烯概述 | 第18-19页 |
·石墨烯基复合材料的制备 | 第19-21页 |
·石墨烯基复合材料光催化处理污水 | 第21-23页 |
·石墨烯基复合材料光催化发展前景 | 第23-24页 |
·g-C_3N_4基半导体复合材料 | 第24-27页 |
·g-C_3N_4简介 | 第24页 |
·g-C_3N_4基复合材料的制备 | 第24-26页 |
·g-C_3N_4基复合材料光催化应用 | 第26-27页 |
·本课题的研究内容 | 第27-29页 |
2 花状氧化锌的制备及其光催化性能研究 | 第29-40页 |
·实验部分 | 第30-31页 |
·原料与仪器 | 第30页 |
·花状氧化锌的制备 | 第30-31页 |
·产品的表征 | 第31-34页 |
·样品的形貌分析 | 第32-33页 |
·样品的物相分析 | 第33-34页 |
·热重分析 | 第34页 |
·花状氧化锌的形成机理分析 | 第34-36页 |
·BET分析测试 | 第36-37页 |
·紫外-可见吸收光谱 | 第37页 |
·光催化性能测试 | 第37-39页 |
·本章总结 | 第39-40页 |
3 Zn_2Ge O_4纳米棒的制备及其光催化性能研究 | 第40-48页 |
·实验部分 | 第41-42页 |
·原材料与仪器 | 第41-42页 |
·Zn_2GeO_4纳米棒的制备 | 第42页 |
·产品的表征 | 第42-43页 |
·结果与讨论 | 第43-45页 |
·XRD分析 | 第43-44页 |
·形貌分析 | 第44-45页 |
·光催化性能测试 | 第45-47页 |
·固体紫外吸光度测试 | 第45页 |
·光催化降解RhB | 第45-47页 |
·本章总结 | 第47-48页 |
4 Zn_2Ge O_4/GO复合光催化剂的制备及其性能研究 | 第48-57页 |
·实验部分 | 第49-51页 |
·原材料与仪器 | 第49-50页 |
·氧化石墨的制备 | 第50页 |
·Zn_2GeO_4纳米晶的制备 | 第50页 |
·Zn_2GeO_4/GO复合物的制备 | 第50-51页 |
·产品的表征 | 第51页 |
·结果与讨论 | 第51-54页 |
·TEM表征 | 第51-52页 |
·XRD分析 | 第52-53页 |
·固体紫外吸光度测试 | 第53-54页 |
·光催化降解RhB | 第54-55页 |
·循环使用性能测试 | 第55-56页 |
·本章总结 | 第56-57页 |
5 Zn_2GeO_4/g-C_3N_4复合光催化剂的制备及其性能研究 | 第57-68页 |
·实验部分 | 第58-60页 |
·原材料与仪器 | 第58-59页 |
·g-C_3N_4的制备 | 第59页 |
·Zn_2GeO_4的制备 | 第59页 |
·g-C_3N_4/Zn_2GeO_4的制备 | 第59-60页 |
·光催化实验 | 第60页 |
·结果与讨论 | 第60-64页 |
·XRD分析 | 第60-61页 |
·FT-IR测试 | 第61-62页 |
·XPS测试 | 第62-63页 |
·TEM测试 | 第63页 |
·UV-Vis测试 | 第63-64页 |
·光催化性能测试 | 第64-67页 |
·光催化降解RhB | 第64-65页 |
·光催化降解RhB机理分析 | 第65-66页 |
·光催化剂循环使用性能 | 第66-67页 |
·本章总结 | 第67-68页 |
总结 | 第68-70页 |
参考文献 | 第70-79页 |
攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第79-80页 |
致谢 | 第80-81页 |