| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-22页 |
| ·硬质膜概述 | 第12-14页 |
| ·过渡金属氮化物硬质膜的分类 | 第12-13页 |
| ·过渡金属氮化物硬质膜的应用 | 第13-14页 |
| ·国内外过渡金属氮化物硬质膜技术研究进展 | 第14-15页 |
| ·国外过渡金属氮化物硬质膜技术研究进展 | 第14-15页 |
| ·国内过渡金属氮化物硬质膜技术研究进展 | 第15页 |
| ·过渡金属氮化物硬质膜研究进展 | 第15-19页 |
| ·二元单层膜 | 第15-16页 |
| ·多元单层膜 | 第16-17页 |
| ·多层膜 | 第17-19页 |
| ·过渡金属氮化物硬质膜的制备方法 | 第19-20页 |
| ·化学气相沉积（CVD）方法 | 第19页 |
| ·物理气相沉积（PVD）方法 | 第19-20页 |
| ·本论文研究的内容、意义 | 第20-21页 |
| ·研究内容 | 第20-21页 |
| ·研究意义 | 第21页 |
| ·本章小结 | 第21-22页 |
| 第2章 实验原理与方案 | 第22-32页 |
| ·实验原理 | 第22-23页 |
| ·磁控溅射原理 | 第22-23页 |
| ·反应磁控溅射原理 | 第23页 |
| ·实验设备 | 第23-24页 |
| ·基片的预处理 | 第24-25页 |
| ·薄膜制备流程 | 第25页 |
| ·薄膜性能表征 | 第25-27页 |
| ·XRD物相分析 | 第25页 |
| ·表面形貌分析 | 第25-26页 |
| ·纳米硬度检测 | 第26-27页 |
| ·成分检测 | 第27页 |
| ·实验方案 | 第27-31页 |
| ·基片的选择 | 第27-28页 |
| ·TiN基准工艺的摸索 | 第28-29页 |
| ·TiN与Ti Al N薄膜的制备 | 第29-30页 |
| ·CrN与CrAlN薄膜的制备 | 第30-31页 |
| ·TiAlN/CrAlN周期多层膜的制备 | 第31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 第3章 TiN与Ti Al N薄膜结果分析 | 第32-46页 |
| ·负偏压对TiN薄膜结构与力学性能的影响 | 第32-34页 |
| ·负偏压对TiN薄膜表面形貌的影响 | 第32-33页 |
| ·负偏压对TiN薄膜物相的影响 | 第33-34页 |
| ·负偏压对TiN薄膜硬度的影响 | 第34页 |
| ·溅射电流对TiN薄膜结构与力学性能的影响 | 第34-37页 |
| ·溅射电流对TiN薄膜表面形貌的影响 | 第34-35页 |
| ·溅射电流对TiN薄膜物相的影响 | 第35-36页 |
| ·溅射电流对TiN薄膜硬度的影响 | 第36-37页 |
| ·N_2流量对Ti N薄膜结构与力学性能的影响 | 第37-39页 |
| ·N_2流量对TiN薄膜表面形貌的影响 | 第37-38页 |
| ·N_2流量对TiN薄膜物相的影响 | 第38-39页 |
| ·N_2流量对TiN薄膜硬度的影响 | 第39页 |
| ·Ar流量对TiN薄膜结构与力学性能的影响 | 第39-42页 |
| ·Ar流量对Ti N薄膜表面形貌的影响 | 第39-41页 |
| ·Ar流量对TiN薄膜物相的影响 | 第41页 |
| ·Ar流量对TiN薄膜硬度的影响 | 第41-42页 |
| ·Al靶功率对TiAlN薄膜结构与力学性能的影响 | 第42-45页 |
| ·Al靶功率对TiAlN薄膜表面形貌的影响 | 第42-43页 |
| ·Al靶功率对TiAlN薄膜物相的影响 | 第43-44页 |
| ·Al靶功率对TiAlN薄膜硬度的影响 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第4章 CrN与CrAlN薄膜结果分析 | 第46-60页 |
| ·负偏压对CrN薄膜结构与力学性能的影响 | 第46-48页 |
| ·负偏压对CrN薄膜表面形貌的影响 | 第46-47页 |
| ·负偏压对CrN薄膜物相的影响 | 第47页 |
| ·负偏压对CrN薄膜硬度的影响 | 第47-48页 |
| ·溅射电流对CrN薄膜结构与力学性能的影响 | 第48-51页 |
| ·溅射电流对CrN薄膜表面形貌的影响 | 第48-49页 |
| ·溅射电流对CrN薄膜物相的影响 | 第49-50页 |
| ·溅射电流对CrN薄膜硬度的影响 | 第50-51页 |
| ·N_2流量对CrN薄膜结构与力学性能的影响 | 第51-53页 |
| ·N_2流量对CrN薄膜表面形貌的影响 | 第51-52页 |
| ·N_2流量对CrN薄膜物相的影响 | 第52页 |
| ·N_2流量对CrN薄膜硬度的影响 | 第52-53页 |
| ·Ar流量对CrN薄膜结构与力学性能的影响 | 第53-56页 |
| ·Ar流量对CrN薄膜表面形貌的影响 | 第53-54页 |
| ·Ar流量对CrN薄膜物相的影响 | 第54-55页 |
| ·Ar流量对CrN薄膜硬度的影响 | 第55-56页 |
| ·Al靶功率对CrAlN薄膜结构与力学性能的影响 | 第56-59页 |
| ·Al靶功率对CrAlN薄膜表面形貌的影响 | 第56-57页 |
| ·Al靶功率对CrAlN薄膜物相的影响 | 第57-58页 |
| ·Al靶功率对CrAlN薄膜硬度的影响 | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 第5章 TiAlN/CrAlN纳米周期多层膜膜结果分析 | 第60-65页 |
| ·调制周期对TiAlN/CrAlN纳米周期多层膜性能的影响 | 第60-64页 |
| ·调制周期对薄膜物相的影响 | 第60-62页 |
| ·调制周期对薄膜硬度的影响 | 第62-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 结论 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-73页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文和获得的科研成果 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |