| 致谢 | 第1-8页 |
| 摘要 | 第8-9页 |
| ABSTRACT | 第9-12页 |
| 插图清单 | 第12-14页 |
| 表格清单 | 第14-15页 |
| 第一章 绪论 | 第15-22页 |
| ·引言 | 第15页 |
| ·纳米压印技术 | 第15-16页 |
| ·硅纳米线的制备 | 第16-19页 |
| ·气液固法 | 第17-18页 |
| ·反应离子刻蚀法 | 第18页 |
| ·金属辅助化学刻蚀法 | 第18-19页 |
| ·太阳能电池概述 | 第19-20页 |
| ·硅基太阳能电池 | 第19页 |
| ·多元化合物薄膜太阳能电池 | 第19-20页 |
| ·有机半导体薄膜太阳能电池 | 第20页 |
| ·染料敏化太阳能电池 | 第20页 |
| ·课题背景及研究内容 | 第20-22页 |
| 第二章 基于 PDMS 软压印制备 PMMA 图形的研究 | 第22-34页 |
| ·研究背景 | 第22页 |
| ·纳米压印及其原理 | 第22-24页 |
| ·实验设备及具体步骤 | 第24-27页 |
| ·实验材料及设备 | 第24-25页 |
| ·实验步骤 | 第25-27页 |
| ·低压压印结果与讨论 | 第27-32页 |
| ·界面间粘附能控制 | 第27-29页 |
| ·图形复制精度及有限元模拟 | 第29-31页 |
| ·残余胶的控制 | 第31-32页 |
| ·本章小结 | 第32-34页 |
| 第三章 硅纳米结构的制备 | 第34-49页 |
| ·金属辅助湿法刻蚀 | 第34-42页 |
| ·金属辅助湿法刻蚀的机理 | 第34-36页 |
| ·实验设备及具体步骤 | 第36-40页 |
| ·实验展望 | 第40-42页 |
| ·反应离子刻蚀法 | 第42-48页 |
| ·反应离子刻蚀原理 | 第42-44页 |
| ·反应离子刻蚀的工艺参数 | 第44-46页 |
| ·实验结果与讨论 | 第46-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第四章 硅太阳能电池器件制备 | 第49-57页 |
| ·太阳能电池的原理及主要性能参数 | 第49-51页 |
| ·太阳能电池器件的制备 | 第51-53页 |
| ·硅纳米结构的修饰 | 第51-52页 |
| ·电池的制备 | 第52-53页 |
| ·电池的结构及原理 | 第53-54页 |
| ·太阳能电池器件性能分析 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 第五章 总结与展望 | 第57-59页 |
| ·全文总结 | 第57-58页 |
| ·实验的不足与展望 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-63页 |
| 攻读硕士学位期间的学术活动及成果情况 | 第63-64页 |