摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-12页 |
第1章 绪论 | 第12-27页 |
·铸造铝硅系合金 | 第12-14页 |
·铸造铝硅系合金热处理过程的组织演变 | 第14-20页 |
·铸造铝硅系合金的固溶处理 | 第16-17页 |
·铸造铝硅系合金的时效处理 | 第17-20页 |
·铝合金时效过程的计算机模拟研究 | 第20-23页 |
·时效初期微观组织演变的模拟研究 | 第20-22页 |
·时效强化模型 | 第22-23页 |
·铝合金电子理论研究现状 | 第23-25页 |
·时效初期团簇形成的电子理论计算 | 第23-24页 |
·沉淀相析出行为的电子理论计算 | 第24-25页 |
·沉淀相结构性能的电子理论研究 | 第25页 |
·本研究的目的与主要研究内容 | 第25-27页 |
·研究目的 | 第25-26页 |
·研究内容 | 第26-27页 |
第2章 研究方法 | 第27-31页 |
·第一性原理计算 | 第27页 |
·密度泛函理论 | 第27-28页 |
·Monte Carlo 模拟 | 第28页 |
·实验研究 | 第28-31页 |
·实验材料 | 第28-29页 |
·合金制备 | 第29页 |
·硬度测试 | 第29-30页 |
·显微组织观察 | 第30页 |
·X 射线衍射物相分析 | 第30-31页 |
第3章 合金元素 Cu、Mg、Si 固溶强化行为的电子理论研究 | 第31-39页 |
·采用第一性原理计算结构参数 | 第31-32页 |
·建立固溶体超胞结构模型 | 第32页 |
·计算结果与讨论 | 第32-38页 |
·各元素晶格常数的计算 | 第32-33页 |
·固溶体结构稳定性分析 | 第33-34页 |
·基于态密度的化学键定性分析 | 第34-36页 |
·局域化电荷密度分析 | 第36-38页 |
·小结 | 第38-39页 |
第4章 铸造 Al-Si 合金时效初期的组织演变 | 第39-48页 |
·铸造 Al-Si 合金时效初期团簇形成的计算 | 第39-40页 |
·结构模型及理论模型 | 第39-40页 |
·计算结果及分析 | 第40页 |
·铸造 Al-Si 合金时效初期团簇形成的 KMC 模拟 | 第40-47页 |
·模型的简化处理 | 第41页 |
·原子迁移的数值模型 | 第41-43页 |
·质点间相互作用参数的选择 | 第43-44页 |
·Si 原子相关模拟参数计算 | 第44-45页 |
·合金成分的选定及模型的建立 | 第45页 |
·Al-Si 二元合金时效初期团簇形成过程的模拟 | 第45-47页 |
·小结 | 第47-48页 |
第5章 铸造 Al-Si-Cu 合金时效初期的组织演变 | 第48-63页 |
·Al-Si-Cu 合金的显微组织 | 第48-52页 |
·Al-Si-Cu 合金时效初期团簇形成的计算 | 第52-53页 |
·Al-Si-Cu 合金时效初期团簇形成的 KMC 模拟 | 第53-56页 |
·θ相析出的电子理论计算 | 第56-62页 |
·θ、θ、θ相结构的稳定性 | 第56-58页 |
·θ、θ、θ相的态密度分析 | 第58-61页 |
·θ、θ、θ相原子间键布局分析 | 第61-62页 |
·小结 | 第62-63页 |
第6章 铸造 Al-Si-Mg 合金时效初期的组织演变 | 第63-79页 |
·Al-Si-Mg 合金的显微组织 | 第63-67页 |
·Al-Si-Mg 合金时效初期团簇形成的计算 | 第67-68页 |
·Al-Si-Mg 合金时效初期团簇形成的 KMC 模拟 | 第68-71页 |
·β相析出的电子理论计算 | 第71-77页 |
·GP 区、β、β、β相结构的稳定性 | 第71-73页 |
·GP 区、β、β、β相的态密度分析 | 第73-76页 |
·GP 区、β、β、β相原子间键布局分析 | 第76-77页 |
·小结 | 第77-79页 |
第7章 铸造 Al-Si-Cu-Mg 合金时效初期的组织演变 | 第79-91页 |
·基于 3DAP 及 First-Principles 的 Al-Si-Cu-Mg 合金微观组织演变研究 | 第79-87页 |
·合金时效 0.25h 时团簇特征及形成机理分析 | 第79-82页 |
·合金时效 2h 时微观组织的特征及演变 | 第82-84页 |
·合金时效 4h 时微观组织的特征及演变 | 第84-87页 |
·Al-Si-Cu-Mg 合金时效初期微观结构演变的 KMC 模拟 | 第87-90页 |
·小结 | 第90-91页 |
第8章 结论 | 第91-92页 |
参考文献 | 第92-99页 |
在学研究成果 | 第99-100页 |
致谢 | 第100页 |