高度有序聚苯胺纳米线阵列的可控制备
摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-7页 |
目录 | 第7-10页 |
Contents | 第10-13页 |
第一章 绪论 | 第13-34页 |
·聚苯胺研究现状 | 第13-14页 |
·导电聚合物 | 第14-15页 |
·导电聚合物概述 | 第14-15页 |
·导电聚合物分类 | 第15页 |
·聚苯胺 | 第15-31页 |
·聚苯胺研究现状 | 第15-17页 |
·聚苯胺结构 | 第17-18页 |
·聚苯胺掺杂 | 第18-20页 |
·聚苯胺不同结构间转化 | 第20-21页 |
·聚苯胺性质 | 第21-24页 |
·聚苯胺的合成 | 第24-28页 |
·聚苯胺的应用 | 第28-31页 |
·本课题研究意义 | 第31-32页 |
·主要研究内容 | 第32-33页 |
·课题的创新性 | 第33-34页 |
第二章 二氧化锰氧化层的制备 | 第34-45页 |
·前言 | 第34-35页 |
·实验部分 | 第35-36页 |
·实验仪器 | 第35页 |
·实验试剂 | 第35-36页 |
·实验过程 | 第36页 |
·结果与讨论 | 第36-42页 |
·旋涂溶剂选择 | 第36-38页 |
·二氧化锰前驱体的选择 | 第38-39页 |
·硝酸锰溶液旋涂次数的影响 | 第39页 |
·硝酸锰浓度选择 | 第39-41页 |
·聚乙烯吡咯烷酮(PVP)辅助成膜 | 第41-42页 |
·籽晶层的EDS表征 | 第42-43页 |
·本章小结 | 第43-45页 |
第三章 嵌段共聚物模板的制备 | 第45-55页 |
·前言 | 第45-46页 |
·实验部分 | 第46-48页 |
·实验仪器与试剂 | 第46页 |
·实验试剂 | 第46-47页 |
·实验过程 | 第47-48页 |
·结果与讨论 | 第48-53页 |
·溶解溶剂的选择 | 第48-49页 |
·晶籽层对嵌段共聚物影响 | 第49-50页 |
·刻蚀溶剂影响 | 第50-51页 |
·嵌段共聚物溶液浓度的影响 | 第51-52页 |
·刻蚀时间的影响 | 第52-53页 |
·本章小结 | 第53-55页 |
第四章 聚苯胺纳米线阵列制备 | 第55-65页 |
·前言 | 第55-56页 |
·实验部分 | 第56-57页 |
·实验仪器 | 第56页 |
·实验试剂 | 第56-57页 |
·实验过程 | 第57页 |
·结果与讨论 | 第57-63页 |
·二氧化锰籽晶层对生长聚苯胺形貌的影响 | 第57-58页 |
·无模板制备PANI时APS加入时间的影响 | 第58-59页 |
·无模板制备PANI时反应时间的影响 | 第59-61页 |
·有模板不添加APS对PANI的生长影响 | 第61-62页 |
·有模板加入APS时反应时间对PANI的生长影响 | 第62-63页 |
·本章小结 | 第63-65页 |
结论 | 第65-66页 |
参考文献 | 第66-76页 |
攻读硕士学位期间发表的论文 | 第76-78页 |
致谢 | 第78页 |