| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-17页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·Sm-Co合金薄膜国内外的研究现状 | 第9-12页 |
| ·物理方法制备Sm-Co合金膜 | 第9-10页 |
| ·电化学方法制备Sm-Co合金膜 | 第10-12页 |
| ·磁性层/非磁性层/磁性层多层膜的研究现状 | 第12-15页 |
| ·巨磁电阻结构 | 第12-14页 |
| ·纳米多层膜的制备及其研究现状 | 第14-15页 |
| ·本论文的主要研究内容及研究方法 | 第15-17页 |
| 2 电化学制备金属或合金薄膜的理论分析 | 第17-25页 |
| ·电沉积理论 | 第17-21页 |
| ·电沉积理论基础 | 第17-20页 |
| ·实验可行性分析 | 第20-21页 |
| ·实验设备及实验步骤 | 第21-24页 |
| ·电沉积制备Sm-Co合金膜的实验步骤 | 第21-23页 |
| ·电沉积制备磁性/非磁性/磁性三层膜阵列的实验步骤 | 第23-24页 |
| ·样品的表征方法 | 第24-25页 |
| ·Sm-Co薄膜的表征方法 | 第24页 |
| ·磁性层/非磁性层/磁性层三层膜阵列的表征方法 | 第24-25页 |
| 3 水溶液中Sm-Co薄膜的制备及其表征 | 第25-39页 |
| ·电解液的组成与工艺条件 | 第25页 |
| ·实验结果与讨论 | 第25-37页 |
| ·电化学行为 | 第25-27页 |
| ·甘氨酸对电沉积制备Sm-Co合金膜的影响 | 第27-28页 |
| ·工艺参数对电沉积Sm-Co合金膜的影响 | 第28-33页 |
| ·退火处理对合金膜表面形貌、晶体结构及磁学性质的影响 | 第33-37页 |
| ·本章小结 | 第37-39页 |
| 4 磁性/非磁性/磁性三层膜阵列的制备及其表征 | 第39-49页 |
| ·电解液组成工艺条件 | 第39页 |
| ·实验结果与讨论 | 第39-48页 |
| ·氧化铝模板的形貌 | 第39-40页 |
| ·Co、Cu、NiFe纳米线的表征 | 第40-45页 |
| ·磁性/非磁性/磁性三层膜阵列的制备和磁学性质 | 第45-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 5 总结 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-57页 |
| 攻读学位期间主要的研究成果目录 | 第57-59页 |
| 致谢 | 第59页 |