激光制备铌掺杂二氧化钛基透明导电薄膜
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-22页 |
| ·课题研究背景及意义 | 第8页 |
| ·透明导电氧化物薄膜 | 第8-12页 |
| ·TCO 导电机制及光学透过性机理 | 第12-15页 |
| ·TCO 薄膜的制备技术 | 第15页 |
| ·Nb：TiO_2 薄膜的制备及光电性能的研究 | 第15-21页 |
| ·本论文主要研究内容 | 第21-22页 |
| 2 脉冲激光沉积技术 | 第22-30页 |
| ·脉冲激光沉积系统概述 | 第22-23页 |
| ·脉冲激光沉积原理 | 第23-27页 |
| ·薄膜的成核生长理论 | 第27-28页 |
| ·脉冲激光沉积法的特点 | 第28-29页 |
| 本章小结 | 第29-30页 |
| 3 TNO 薄膜的制备及性能表征 | 第30-47页 |
| ·引言 | 第30-31页 |
| ·靶材的制备及性能表征 | 第31-41页 |
| ·基片的清洗 | 第41页 |
| ·TNO 薄膜的制备 | 第41-43页 |
| ·测试与表征 | 第43-46页 |
| 本章小结 | 第46-47页 |
| 4 TNO 薄膜结构表征 | 第47-55页 |
| ·TNO 薄膜生长机理分析 | 第47-48页 |
| ·TNO 薄膜结晶性能分析 | 第48-52页 |
| ·TNO 薄膜成分分析 | 第52-53页 |
| ·TNO 薄膜表面形貌分析 | 第53-54页 |
| 本章小结 | 第54-55页 |
| 5 TNO 薄膜性能分析 | 第55-62页 |
| ·TNO 薄膜光学性能分析 | 第55-58页 |
| ·TNO 薄膜电学性能分析 | 第58-61页 |
| 本章小结 | 第61-62页 |
| 6 总结与展望 | 第62-64页 |
| 致谢 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-70页 |
