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新型含二甲基硅单元的噁二唑类电子传输材料的合成及性质研究

摘要第1-3页
Abstract第3-6页
主要缩写词和全称对照第6-7页
第一章 绪论第7-8页
第二章 文献综述第8-28页
   ·有机电致发光器件第8-13页
     ·有机电致发光器件的器件结构第8-10页
     ·有机电致发光器件的主要工作原理第10-11页
     ·有机电致发光器件的基本性能参数第11-13页
   ·载流子传输材料第13-19页
     ·电子传输材料第13-17页
     ·空穴传输材料第17-19页
   ·发光材料第19-23页
     ·有机荧光化合物的发光机理第19-20页
     ·小分子发光化合物第20-22页
     ·有机化合物荧光强度的影响因素第22-23页
   ·有机硅类电致发光材料的研究进展第23-26页
   ·展望第26页
   ·本文的设计思想第26-28页
第三章 实验部分第28-37页
   ·测试仪器与试剂第28-30页
     ·主要原料和试剂第28-29页
     ·主要测试仪器第29-30页
   ·目标化合物的合成路线第30-32页
   ·中间体及目标产物的合成方法第32-37页
     ·四氢呋喃(THF)的精制第32页
     ·二(4’-甲基苯基)-二甲基硅烷(1A)的合成第32-33页
     ·二(4’-甲酸苯基)-二甲基硅烷(1B)的制备第33页
     ·二(4’-甲酸乙酯基苯基)-二甲基硅烷(1C)的制备第33页
     ·中间体二(4’-甲酰肼基苯基)-二甲基硅烷(1D)的制备第33-34页
     ·取代苯甲酸酯2A,2B的制备第34页
     ·取代苯甲酸2C,2D的制备第34-35页
     ·目标物化合物SiOXD1-3第35-36页
     ·目标化合物SiOXD4-5第36-37页
第四章 结果与讨论第37-65页
   ·目标化合物的合成方法探讨第37-38页
   ·目标化合物的结构表征第38-46页
     ·目标化合物的核磁氢谱第38-40页
     ·目标化合物的核磁碳谱第40-44页
     ·目标化合物的红外光谱第44-46页
   ·质谱和元素分析第46页
   ·目标化合物SiOXD1、SiOXD5的单晶培养和结构测定第46-54页
   ·目标化合物的性能测试第54-65页
     ·紫外吸收光谱第54-55页
     ·目标化合物的荧光光谱第55-58页
     ·目标化合物的电化学性质第58-60页
     ·目标化合物的热稳定性第60-62页
     ·理论计算第62-65页
第五章 结论第65-66页
致谢第66-67页
参考文献第67-72页
作者简介第72页
攻读硕士学位期间研究成果第72-73页

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