| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-10页 |
| 致谢 | 第10-11页 |
| 目录 | 第11-18页 |
| 第一章 绪论 | 第18-26页 |
| ·有机-无机杂化离子膜的分类 | 第18-20页 |
| ·有机-无机杂化阴离子交换膜 | 第19页 |
| ·有机-无机杂化阳离子交换膜 | 第19页 |
| ·有机-无机杂化两性膜 | 第19-20页 |
| ·有机-无机杂化离子膜制备 | 第20-22页 |
| ·有机-无机杂化离子膜材料的选择 | 第20页 |
| ·有机-无机杂化离子膜的制备方法 | 第20-22页 |
| ·有机-无机杂化离子交换膜的应用与发展 | 第22-24页 |
| ·论文研究的来源、意义和主要内容 | 第24-26页 |
| ·论文研究工作的来源及研究意义 | 第24页 |
| ·论文的主要研究内容 | 第24-26页 |
| 第二章 PVA/TEOS 杂化膜交联网络 | 第26-44页 |
| ·实验部分 | 第26-29页 |
| ·材料及仪器设备 | 第26-27页 |
| ·制备 PVA/TEOS 杂化膜 | 第27-28页 |
| ·膜的表征 | 第28-29页 |
| ·结果与讨论 | 第29-42页 |
| ·PVA 与 TEOS 的理论交联网络 | 第29-33页 |
| ·Si-O-C 与 Si-O-Si 不同的影响 | 第30-31页 |
| ·平面交联网络 | 第31-32页 |
| ·三维交联网络 | 第32-33页 |
| ·Si-O-Si 和 Si-O-C 的形成 | 第33-34页 |
| ·PVA 与 TEOS 之间的相容性 | 第34页 |
| ·膜的形貌 | 第34-36页 |
| ·膜结构 | 第36-37页 |
| ·热稳定性 | 第37-39页 |
| ·抗溶胀性 | 第39-40页 |
| ·抗碱性 | 第40-41页 |
| ·NaOH（UOH）渗析系数 | 第41页 |
| ·分离因子（S） | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-44页 |
| 第三章 羧酸型多硅共聚物-PVA 杂化膜的制备及 DD 应用 | 第44-58页 |
| ·实验部分 | 第45-47页 |
| ·材料及仪器设备 | 第45页 |
| ·多硅共聚物 poly(MA-co-γ-MPS)的制备 | 第45页 |
| ·阳离子杂化膜的制备 | 第45-46页 |
| ·膜性能表征方法 | 第46-47页 |
| ·结果与讨论 | 第47-57页 |
| ·多硅共聚物和杂化膜的制备 | 第47-48页 |
| ·红外光谱（FTIR） | 第48页 |
| ·杂化膜的断面形貌 | 第48-49页 |
| ·离子交换容量测量值（IECexp），水含量（WR），65oC 的溶胀性和碱中稳定性 | 第49-52页 |
| ·杂化膜的热稳定性和机械强度 | 第52-53页 |
| ·扩散渗析（DD）性能 | 第53-57页 |
| ·OH-和 WO42-的渗析系数（UOH和 UWO4） | 第53-56页 |
| ·分离因子（S） | 第56-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 第四章 磺酸型多硅共聚物-PVA 杂化膜的制备及 DD 应用 | 第58-71页 |
| ·实验部分 | 第59-60页 |
| ·材料及仪器设备 | 第59页 |
| ·制备多硅共聚物 oly(SSS-co-γ-MPS) | 第59-60页 |
| ·杂化膜的制备 | 第60页 |
| ·膜的表征 | 第60页 |
| ·结果与讨论 | 第60-69页 |
| ·多硅共聚物的表征 | 第60-61页 |
| ·多硅共聚物对膜表观形貌的影响 | 第61-62页 |
| ·离子交换容量(IEC)，水含量(WR)和 65oC 水溶胀性 | 第62-64页 |
| ·热稳定性和机械性能 | 第64-66页 |
| ·扩散渗析(DD)效果 | 第66-68页 |
| ·DD 性能与膜结构之间的关联 | 第68-69页 |
| ·本章小结 | 第69-71页 |
| 第五章 磺酸＆羧酸型多硅共聚物-PVA 杂化膜的制备及 DD 应用 | 第71-89页 |
| ·实验部分 | 第71-74页 |
| ·材料及仪器设备 | 第71-72页 |
| ·多硅共聚物 poly(MA-co-SSS-co-γ-MPS)的制备 | 第72页 |
| ·杂化膜的制备 | 第72-73页 |
| ·膜表征 | 第73-74页 |
| ·结果与讨论 | 第74-87页 |
| ·多硅共聚物和杂化膜的制备概述 | 第74页 |
| ·不同硅烷共聚物之间的比较 | 第74-76页 |
| ·FTIR 光谱 | 第76-77页 |
| ·杂化膜的断面形貌 | 第77-79页 |
| ·离子交换容量（IEC）和抗溶胀 | 第79-80页 |
| ·热稳定性 | 第80-82页 |
| ·机械性能 | 第82-83页 |
| ·膜电势（Em）和静态迁移数（t） | 第83页 |
| ·扩散渗析（DD）性能 | 第83-86页 |
| ·OH-渗析系数（UOH） | 第83-85页 |
| ·分离因子（S） | 第85页 |
| ·2 0oC 测试时间对 DD 性能的影响 | 第85-86页 |
| ·DD 过程的机制 | 第86-87页 |
| ·本章小结 | 第87-89页 |
| 第六章 结论 | 第89-92页 |
| 参考文献 | 第92-104页 |
| 在读期间发表的学术论文及研究成果 | 第104-106页 |
