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熔石英元件离子束抛光物理规律与激光损伤特性研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-9页
第一章 绪论第9-14页
   ·课题背景第9-12页
   ·离子束抛光的研究进展第12-13页
   ·论文研究内容第13-14页
第二章 光学材料的离子束抛光研究第14-22页
   ·国内外对光学元件传统抛光技术研究第14-20页
   ·熔石英表面抛光设备第20-21页
   ·小结第21-22页
第三章 SRIM模拟优化离子束刻蚀熔石英元件参数第22-30页
   ·Sigmund溅射理论介绍第22-24页
   ·SRIM仿真分析条件第24页
   ·溅射产额与离子束参数的关系第24-26页
   ·刻蚀损伤深度分析第26-27页
   ·离子束刻蚀过程的三维物理图像第27-29页
   ·本章小结第29-30页
第四章 Ar离子束抛光熔石英表面特性的研究第30-48页
   ·实验设备及实验参数第30-32页
     ·Ar离子抛光熔石英实验方法第30-31页
     ·Ar离子抛光熔石英实验条件第31页
     ·样品表征第31-32页
   ·实验结果与讨论第32-37页
   ·样品污染分析第37-47页
     ·受污染样品表面形貌第37-39页
     ·受污染样品光学特性第39-41页
     ·污染物成分分析第41-45页
       ·电子科技大学设备实验污染成分第41-43页
       ·绵阳九院设备实验污染成分第43-45页
     ·受污染样品损伤阈值分析第45-47页
   ·本章小结第47-48页
第五章 总结与展望第48-50页
   ·总结第48页
   ·展望第48-50页
致谢第50-51页
参考文献第51-56页
攻硕期间取得的研究成果第56页

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