熔石英元件离子束抛光物理规律与激光损伤特性研究
摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-9页 |
第一章 绪论 | 第9-14页 |
·课题背景 | 第9-12页 |
·离子束抛光的研究进展 | 第12-13页 |
·论文研究内容 | 第13-14页 |
第二章 光学材料的离子束抛光研究 | 第14-22页 |
·国内外对光学元件传统抛光技术研究 | 第14-20页 |
·熔石英表面抛光设备 | 第20-21页 |
·小结 | 第21-22页 |
第三章 SRIM模拟优化离子束刻蚀熔石英元件参数 | 第22-30页 |
·Sigmund溅射理论介绍 | 第22-24页 |
·SRIM仿真分析条件 | 第24页 |
·溅射产额与离子束参数的关系 | 第24-26页 |
·刻蚀损伤深度分析 | 第26-27页 |
·离子束刻蚀过程的三维物理图像 | 第27-29页 |
·本章小结 | 第29-30页 |
第四章 Ar离子束抛光熔石英表面特性的研究 | 第30-48页 |
·实验设备及实验参数 | 第30-32页 |
·Ar离子抛光熔石英实验方法 | 第30-31页 |
·Ar离子抛光熔石英实验条件 | 第31页 |
·样品表征 | 第31-32页 |
·实验结果与讨论 | 第32-37页 |
·样品污染分析 | 第37-47页 |
·受污染样品表面形貌 | 第37-39页 |
·受污染样品光学特性 | 第39-41页 |
·污染物成分分析 | 第41-45页 |
·电子科技大学设备实验污染成分 | 第41-43页 |
·绵阳九院设备实验污染成分 | 第43-45页 |
·受污染样品损伤阈值分析 | 第45-47页 |
·本章小结 | 第47-48页 |
第五章 总结与展望 | 第48-50页 |
·总结 | 第48页 |
·展望 | 第48-50页 |
致谢 | 第50-51页 |
参考文献 | 第51-56页 |
攻硕期间取得的研究成果 | 第56页 |