| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-27页 |
| ·引言 | 第11-17页 |
| ·薄膜材料 | 第11-12页 |
| ·透明导电薄膜 | 第12-17页 |
| ·ZnO 简介 | 第17-21页 |
| ·ZnO 薄膜的晶体结构 | 第17-18页 |
| ·ZnO 薄膜的基本物理性质 | 第18-19页 |
| ·ZnO 薄膜的光电性质 | 第19-20页 |
| ·ZnO 薄膜的其他性质 | 第20-21页 |
| ·ZnO 基透明导电薄膜的应用 | 第21-23页 |
| ·透明电极 | 第22页 |
| ·红外反射膜 | 第22-23页 |
| ·面发热膜 | 第23页 |
| ·掺杂 ZnO 薄膜研究进展 | 第23-25页 |
| ·ZnO:Al 薄膜的研究现状 | 第23-24页 |
| ·ZnO:Eu 薄膜的研究现状 | 第24-25页 |
| ·立题依据以及研究内容 | 第25-27页 |
| 第二章 ZnO 薄膜的制备技术及相关测试方法 | 第27-33页 |
| ·ZnO 薄膜的制备方法 | 第27-29页 |
| ·磁控溅射法（Magnetron Sputtering） | 第27页 |
| ·脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition） | 第27-28页 |
| ·喷雾热解法（Spray Pyrolysis） | 第28页 |
| ·分子束外延（Molecular Bean Epitaxy） | 第28页 |
| ·溶胶-凝胶法（Sol-Gel） | 第28-29页 |
| ·金属有机物化学气相沉积（Metal-Organic Chemical Vapor Deposition） | 第29页 |
| ·电子束蒸发（Electron-Beam Evaporation） | 第29页 |
| ·ZnO 薄膜的测试方法 | 第29-33页 |
| ·霍尔效应测试 | 第29-30页 |
| ·X 射线衍射（XRD） | 第30-31页 |
| ·光致发光谱（PL） | 第31页 |
| ·透射谱（Transmission Spectra） | 第31-33页 |
| 第三章 实验设备及原理、薄膜制备过程 | 第33-41页 |
| ·EBE 实验机制 | 第33-37页 |
| ·实验设备 | 第37-38页 |
| ·实验方案 | 第38-41页 |
| ·实验靶材的制备 | 第38-39页 |
| ·衬底清洗 | 第39页 |
| ·薄膜沉积 | 第39-41页 |
| 第四章 石英衬底上生长 ZnO:Al 薄膜的特性分析 | 第41-50页 |
| ·预沉积缓冲层对 ZnO:Al 薄膜各方面性能的影响 | 第41-46页 |
| ·结构性能 | 第42-44页 |
| ·电学性能 | 第44页 |
| ·光学性能 | 第44-45页 |
| ·小结 | 第45-46页 |
| ·Al 掺杂浓度对 ZnO:Al 薄膜各方面性能的影响 | 第46-50页 |
| ·结构性能 | 第46页 |
| ·电学性能 | 第46-48页 |
| ·光学性能 | 第48页 |
| ·小结 | 第48-50页 |
| 第五章 石英衬底上生长 ZnO:Eu 薄膜的特性分析 | 第50-57页 |
| ·引言 | 第50-51页 |
| ·实验过程 | 第51页 |
| ·实验结果与分析 | 第51-57页 |
| 第六章 总结与展望 | 第57-59页 |
| ·总结 | 第57-58页 |
| ·工作展望 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-66页 |
| 致谢 | 第66-68页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第68页 |
