| 摘要 | 第1-8页 |
| ABSTRACT | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-12页 |
| §1.1 引言 | 第9-10页 |
| §1.2 光电离截面的研究背景 | 第10-12页 |
| 第二章 实验技术 | 第12-22页 |
| §2.1 激光烧蚀 | 第12-13页 |
| §2.2 超声分子束 | 第13-14页 |
| §2.3 飞行时间质谱 | 第14-19页 |
| §2.3.1 基本原理 | 第14-17页 |
| §2.3.2 特征参数 | 第17-19页 |
| §2.4 （1+1）共振增强电离 REMPI | 第19-22页 |
| 第三章 实验装置 | 第22-26页 |
| §3.1 真空系统 | 第22-23页 |
| §3.2 分子束源系统 | 第23页 |
| §3.3 激光光源系统 | 第23页 |
| §3.4 时序控制系统 | 第23-24页 |
| §3.5 信号探测及采集系统 | 第24-26页 |
| 第四章 实验原理与过程 | 第26-30页 |
| §4.1 原子激发态光电离截面测定原理 | 第26-28页 |
| §4.2 实验过程 | 第28-30页 |
| 第五章 实验结果和分析 | 第30-41页 |
| §5.1 Ti，V，Cr，Fe 和 Co 的飞行时间质谱 | 第30-32页 |
| §5.2 Ti，V，Cr，Fe 和 Co 的(1+1) REMPI 光谱 | 第32-34页 |
| §5.3 Ti, V, Cr, Fe 和 Co 原子激发态的光电离截面 | 第34-38页 |
| §5.4 结论 | 第38-41页 |
| 参考文献 | 第41-45页 |
| 硕士研究生学习期间完成的工作 | 第45-46页 |
| 致谢 | 第46页 |