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纳米碳化硅的脉冲激光烧蚀沉积及其光学特性研究

第一章 绪论第1-14页
   ·研究意义第7-8页
   ·SiC材料特性及其应用前景第8-10页
   ·SiC材料常见制备方法第10-12页
   ·国内外研究现状第12-13页
   ·所做工作第13-14页
第二章 实验原理第14-20页
   ·脉冲激光烧蚀沉积原理第14-17页
   ·退火原理第17-20页
第三章 实验方法第20-27页
   ·实验装置第20-23页
   ·实验条件第23-24页
   ·实验检测技术第24-27页
第四章 实验结果与分析第27-44页
   ·SiC薄膜PLD法制备及其真空热退火晶化第27-34页
   ·激光退火晶化第34-38页
   ·金属Fe诱导SiC低温定向晶化第38-44页
第五章 结束语第44-46页
参考文献第46-49页
致谢第49页

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