| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第13-29页 |
| 1.1 沸石分子筛研究背景 | 第13-14页 |
| 1.2 纳米沸石分子筛的研究背景 | 第14-16页 |
| 1.3 β分子筛的研究进展 | 第16-19页 |
| 1.4 锗酸盐分子筛的研究进展 | 第19-20页 |
| 1.5 锗硅酸盐分子筛的研究现状 | 第20-21页 |
| 1.6 ITQ系列锗硅酸盐分子筛的研究现状 | 第21-22页 |
| 1.7 ITQ-16、ITQ-17分子筛的发展历程 | 第22-26页 |
| 1.8 本课题的研究目的及意义 | 第26-27页 |
| 1.9 本课题的研究内容 | 第27-29页 |
| 第二章 实验部分 | 第29-33页 |
| 2.1 实验试剂 | 第29页 |
| 2.2 实验仪器 | 第29页 |
| 2.3 物化表征方法 | 第29-33页 |
| 2.3.1 粉末X射线衍射 | 第30页 |
| 2.3.2 扫描电子显微镜 | 第30页 |
| 2.3.3 高分辨透射电子显微镜 | 第30-31页 |
| 2.3.4 全自动比表面与孔隙分析仪 | 第31页 |
| 2.3.5 化学元素分析 | 第31页 |
| 2.3.6 傅里叶变换红外光谱 | 第31页 |
| 2.3.7 同步热分析仪 | 第31-32页 |
| 2.3.8 动态光散射 | 第32-33页 |
| 第三章 ITQ-16分子筛的合成研究 | 第33-59页 |
| 3.1 引言 | 第33页 |
| 3.2 高反应活性硅胶的制备与表征 | 第33-35页 |
| 3.2.1 高反应活性硅胶的制备 | 第33-34页 |
| 3.2.2 高反应活性硅胶的红外表征 | 第34页 |
| 3.2.3 高反应活性硅胶的TG-DSC分析 | 第34-35页 |
| 3.2.4 高反应活性硅胶的氮气吸附-脱附分析 | 第35页 |
| 3.2.5 高反应活性硅胶制备与分析小结 | 第35页 |
| 3.3 ITQ-16分子筛的制备 | 第35-36页 |
| 3.4 结果与讨论 | 第36-57页 |
| 3.4.1 水含量(H_2O/TO_2)对ITQ-16分子筛合成的影响 | 第37-43页 |
| 3.4.2 温度对ITQ-16分子筛合成的影响 | 第43-49页 |
| 3.4.3 硅锗比(SiO_2/GeO_2)对ITQ-16分子筛合成的影响 | 第49-53页 |
| 3.4.4 ITQ-16分子筛的表征 | 第53-57页 |
| 3.5 本章小结 | 第57-59页 |
| 第四章 纳米ITQ系列分子筛的合成研究 | 第59-67页 |
| 4.1 引言 | 第59页 |
| 4.2 纳米ITQ-16、ITQ-17分子筛合成研究 | 第59-65页 |
| 4.2.1 纳米ITQ-16、ITQ-17分子筛的合成条件 | 第60-63页 |
| 4.2.2 纳米ITQ-16分子筛的孔结构表征 | 第63-64页 |
| 4.2.3 纳米ITQ-16分子筛晶粒大小的确定 | 第64-65页 |
| 4.3 本章小结 | 第65-67页 |
| 第五章 结论 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-73页 |
| 致谢 | 第73-75页 |
| 研究成果及发表的学术论文 | 第75-77页 |
| 作者和导师简介 | 第77-78页 |
| 附件 | 第78-79页 |
