电子薄膜的电子探针能谱分析技术研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-24页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·薄膜成分分析和厚度测量现状 | 第11-13页 |
| ·电子探针能谱薄膜分析的研究动态 | 第13-16页 |
| ·电子探针能谱分析技术 | 第16-22页 |
| ·电子探针的基本结构与原理 | 第16-21页 |
| ·电子探针能谱分析技术的特点 | 第21页 |
| ·电子探针能谱能谱对薄膜的定义 | 第21-22页 |
| ·本论文研究的目的及意义 | 第22-24页 |
| 第二章 掠出射角电子探针能谱分析技术 | 第24-40页 |
| ·掠出射角电子探针能谱分析理论 | 第24-29页 |
| ·X射线的波动方程与折射率 | 第24-29页 |
| ·典型材料X射线全反射临界角 | 第29页 |
| ·实验平台建立 | 第29-31页 |
| ·实验仪器与材料 | 第29-30页 |
| ·掠出射角样品桌的设计 | 第30-31页 |
| ·掠出射角电子探针能谱分析技术性能评测实验 | 第31-39页 |
| ·掠出射与常规出射电子探针分析比较 | 第31-33页 |
| ·掠出射条件下X射线强度研究 | 第33-37页 |
| ·样品倾斜对电子探针定量分析精度的影响 | 第37-39页 |
| ·小结 | 第39-40页 |
| 第三章 薄膜成分的电子探针能谱分析研究 | 第40-51页 |
| ·测量薄膜成分的理论分析 | 第40-43页 |
| ·元素特征谱线的选择 | 第43-48页 |
| ·具有荧光效应的衬底薄膜 | 第43-45页 |
| ·不具荧光效应的衬底薄膜 | 第45-48页 |
| ·加速电压的选择 | 第48-49页 |
| ·小结 | 第49-51页 |
| 第四章 电子探针能谱测量薄膜厚度的方法研究 | 第51-61页 |
| ·EDS测量薄膜厚度的原理 | 第51-54页 |
| ·实验 | 第54页 |
| ·单一组分薄膜厚度测量 | 第54-58页 |
| ·多组分薄膜厚度测量 | 第58-60页 |
| ·小结 | 第60-61页 |
| 第五章 薄膜中轻元素的电子探针能谱定量分析 | 第61-67页 |
| ·实验 | 第62页 |
| ·峰位校准 | 第62-63页 |
| ·工作电压的选择 | 第63-65页 |
| ·SEC因子 | 第65-66页 |
| ·小结 | 第66-67页 |
| 第六章 结论 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第75页 |
