摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-10页 |
第1章 绪论 | 第10-20页 |
·表面润湿现象及其应用 | 第10-11页 |
·固体表面的润湿性理论 | 第11-16页 |
·接触角的定义以及Young 方程 | 第11-12页 |
·Wenzel 接触角理论 | 第12页 |
·Cassie 接触角理论 | 第12-14页 |
·改变表面润湿性能的方式 | 第14-16页 |
·超疏水表面的研究动态及发展前景 | 第16-17页 |
·非晶碳薄膜的概述 | 第17-19页 |
·本文研究的主要内容 | 第19-20页 |
第2章 非晶碳薄膜的HFCVD 制备 | 第20-32页 |
·HFCVD 制备非晶碳薄膜 | 第21-23页 |
·非晶碳薄膜的HFCVD 制备工艺 | 第21-22页 |
·HFCVD 中非晶碳的成膜机理分析 | 第22-23页 |
·HFCVD 制备的非晶碳薄膜的鉴定 | 第23-24页 |
·衬底温度对非晶碳薄膜沉积速率的影响 | 第24-26页 |
·样品制备 | 第24-25页 |
·结果与讨论 | 第25-26页 |
·气体流量组成对非晶碳薄膜沉积速率的影响 | 第26-27页 |
·样品制备 | 第26页 |
·结果与讨论 | 第26-27页 |
·工作气压对非晶碳薄膜沉积速率的影响 | 第27-29页 |
·样品制备 | 第27-28页 |
·结果与讨论 | 第28-29页 |
·本章小结 | 第29-32页 |
第3章 各制备参数对非晶碳薄膜生长形貌的影响 | 第32-42页 |
·衬底温度对非晶碳薄膜生长形貌的影响 | 第32-36页 |
·样品制备 | 第32-33页 |
·结果与讨论 | 第33-36页 |
·气体流量组成对非晶碳薄膜生长形貌的影响 | 第36-38页 |
·样品制备 | 第36页 |
·结果与讨论 | 第36-38页 |
·工作气压对非晶碳薄膜生长形貌的影响 | 第38-39页 |
·样品制备 | 第38页 |
·结果与讨论 | 第38-39页 |
·本章小结 | 第39-42页 |
第4章 各制备参数及后处理对非晶碳薄膜润湿性能的影响 | 第42-56页 |
·衬底温度对非晶碳薄膜润湿性的影响 | 第43-45页 |
·样品制备 | 第43页 |
·结果与讨论 | 第43-45页 |
·气体流量组成对非晶碳薄膜润湿性的影响 | 第45-47页 |
·样品制备 | 第45-46页 |
·结果与讨论 | 第46-47页 |
·工作气压对非晶碳薄膜润湿性的影响 | 第47-48页 |
·样品制备 | 第47页 |
·结果与讨论 | 第47-48页 |
·生长时间及放置时间对非晶碳薄膜润湿性的影响 | 第48-50页 |
·样品制备 | 第48-49页 |
·结果与讨论 | 第49-50页 |
·CF4 等离子表面处理对非晶碳薄膜润湿性的影响 | 第50-54页 |
·样品制备 | 第50-52页 |
·结果与讨论 | 第52-54页 |
·本章小结 | 第54-56页 |
第5章 结论 | 第56-60页 |
参考文献 | 第60-66页 |
攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第66-68页 |
致谢 | 第68页 |