| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-13页 |
| 1 绪论 | 第13-32页 |
| ·引言 | 第13-14页 |
| ·硬质薄膜的分类 | 第14-15页 |
| ·本征硬质薄膜 | 第14页 |
| ·多元化合物硬质薄膜 | 第14页 |
| ·微结构强化硬质薄膜 | 第14-15页 |
| ·纳米多层膜 | 第15-22页 |
| ·纳米多层膜的基本概念 | 第15-16页 |
| ·纳米多层膜的结构分类 | 第16-17页 |
| ·纳米多层膜中的非晶晶化与模板效应 | 第17-19页 |
| ·纳米多层膜的超硬机制 | 第19-20页 |
| ·含氧化物纳米多层膜 | 第20-22页 |
| ·硬质薄膜中的AlN | 第22-25页 |
| ·AlN 的结构 | 第22-23页 |
| ·六方AlN 在纳米多层膜中的结构转变 | 第23-25页 |
| ·含AlN 复合涂层的高温抗氧化性 | 第25页 |
| ·论文设计思想与研究内容 | 第25-28页 |
| ·设计思想 | 第25-26页 |
| ·研究内容 | 第26-28页 |
| 参考文献 | 第28-32页 |
| 2 薄膜的制备与检测 | 第32-43页 |
| ·薄膜制备原理与实验设备 | 第32-37页 |
| ·磁控溅射原理 | 第32-36页 |
| ·镀膜设备 | 第36页 |
| ·高温退火实验设备 | 第36-37页 |
| ·薄膜检测方法与检测设备 | 第37-42页 |
| ·X 射线衍射仪（XRD） | 第37页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第37页 |
| ·透射电子显微镜（TEM） | 第37页 |
| ·原子力显微镜（AFM） | 第37-38页 |
| ·能量色散谱仪（EDS） | 第38页 |
| ·微力学探针（nano-indentor） | 第38-40页 |
| ·测量薄膜显微硬度的两步压入法 | 第40-42页 |
| 参考文献 | 第42-43页 |
| 3 AlN/SiO_2纳米多层膜的生长结构与力学性能 | 第43-53页 |
| ·引言 | 第43-44页 |
| ·AlN/SiO_2纳米多层膜的制备 | 第44-45页 |
| ·AlN/SiO_2纳米多层膜的测试结果 | 第45-49页 |
| ·AlN/SiO_2纳米多层膜的调制结构 | 第45页 |
| ·AlN/SiO_2纳米多层膜的生长与界面结构 | 第45-48页 |
| ·AlN/SiO_2纳米多层膜的力学性能 | 第48-49页 |
| ·讨论 | 第49-51页 |
| ·AlN/SiO_2纳米多层膜的生长结构 | 第49-50页 |
| ·AlN/SiO_2纳米多层膜的超硬效应 | 第50-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-53页 |
| 4 AlN/Si_3N_4纳米多层膜的生长结构与力学性能 | 第53-63页 |
| ·引言 | 第53-54页 |
| ·AlN/Si_3N_4纳米多层膜的制备 | 第54-55页 |
| ·AlN/Si_3N_4纳米多层膜的测试结果 | 第55-59页 |
| ·AlN/Si_3N_4纳米多层膜的微结构 | 第55-57页 |
| ·AlN/Si_3N_4纳米多层膜的力学性能 | 第57-59页 |
| ·讨论 | 第59-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-63页 |
| 5 AlN 基纳米多层膜的超硬机理 | 第63-73页 |
| ·纳米多层膜超硬效应的理论研究 | 第63-67页 |
| ·模量差异理论 | 第63-65页 |
| ·共格应变理论 | 第65-66页 |
| ·Hall-Patch 强化理论 | 第66-67页 |
| ·AlN 基纳米多层膜的超硬机理 | 第67-70页 |
| ·AlN 基纳米多层膜硬度增量的理论计算 | 第67-69页 |
| ·关于AlN 基纳米多层膜体系超硬效应的讨论 | 第69-70页 |
| ·本章小结 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-73页 |
| 6 AlN/SiO_2纳米多层膜的高温稳定性 | 第73-88页 |
| ·引言 | 第73-74页 |
| ·AlN/SiO_2的高温退火实验 | 第74页 |
| ·退火后AlN/SiO_2纳米多层膜的测试结果 | 第74-85页 |
| ·退火后AlN/SiO_2纳米多层膜的结构稳定性 | 第74-78页 |
| ·退火前后AlN/SiO_2纳米多层膜表面形貌 | 第78-80页 |
| ·退火后AlN/SiO_2纳米多层膜的氧化 | 第80-82页 |
| ·退火后AlN/SiO_2纳米多层膜的硬度 | 第82-85页 |
| ·讨论 | 第85-86页 |
| ·加入SiO_2对AlN/SiO_2纳米多层膜高抗氧化性的作用 | 第85-86页 |
| ·高温退火对AlN/SiO_2纳米多层膜结构稳定性的影响 | 第86页 |
| ·本章小结 | 第86-87页 |
| 参考文献 | 第87-88页 |
| 7 结论 | 第88-90页 |
| 致谢 | 第90-91页 |
| 攻读硕士期间发表论文及申请专利 | 第91-92页 |
