| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-20页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·多层膜高反射镜的研究进展 | 第12-16页 |
| ·多层膜的进展 | 第12-14页 |
| ·软X射线多层膜的进展 | 第14-15页 |
| ·类镍钽软X射线激光用高反射镜的进展 | 第15-16页 |
| ·类镍钽软X射线激光用高反射镜的应用 | 第16-18页 |
| ·课题背景和研究内容 | 第18-20页 |
| 第2章 类镍钽软X射线激光用高反射镜的设计 | 第20-35页 |
| ·引言 | 第20页 |
| ·多层膜材料对的选择 | 第20-23页 |
| ·软X射线波段材料的光学常数 | 第20-22页 |
| ·多层膜材料对的选择 | 第22-23页 |
| ·类镍钽软X射线激光用多层膜的结构设计 | 第23-29页 |
| ·软X射线多层膜理论 | 第24-26页 |
| ·类镍钽软x射线激光用高反射镜的结构优化设计 | 第26-29页 |
| ·类镍钽软X射线激光用多层膜性能的模拟计算 | 第29-34页 |
| ·Cr/C、Co/C、Cr/Sc多层膜理论反射率的比较 | 第29页 |
| ·界面宽度σ对峰值反射率影响的理论计算 | 第29-32页 |
| ·多层膜在0.154nm波长处反射特性的理论分析 | 第32-34页 |
| ·小结 | 第34-35页 |
| 第3章 类镍钽软X射线激光用高反射镜的制备 | 第35-52页 |
| ·引言 | 第35页 |
| ·多层膜制备方法 | 第35-36页 |
| ·磁控溅射介绍 | 第36-39页 |
| ·溅射的原理 | 第36页 |
| ·磁控溅射的原理 | 第36-37页 |
| ·磁控溅射设备介绍 | 第37-39页 |
| ·镀膜沉积速率标定与多层膜的结构检测 | 第39-43页 |
| ·X射线小角反射测量介绍 | 第39-41页 |
| ·镀膜沉积速率标定 | 第41-43页 |
| ·多层膜的制备工艺研究 | 第43-49页 |
| ·充气方式比较 | 第44-45页 |
| ·基片偏压的比较 | 第45-46页 |
| ·功率比较 | 第46-49页 |
| ·设计参数选优 | 第49-51页 |
| ·小结 | 第51-52页 |
| 第4章 类镍钽软X射线激光用高反射镜的检测与结果分析 | 第52-68页 |
| ·引言 | 第52页 |
| ·X射线衍射仪对多层膜结构的测量与分析 | 第52-59页 |
| ·高分辨率X射线衍射仪小角反射测试结果与分析 | 第52-56页 |
| ·X射线散射测量结果的介绍与分析 | 第56-59页 |
| ·同步辐射测量 | 第59-64页 |
| ·同步辐射测量介绍 | 第60页 |
| ·同步辐射的测试结果介绍 | 第60-64页 |
| ·测量结果的拟合与分析 | 第64-66页 |
| ·小结 | 第66-68页 |
| 第5章 全文总结 | 第68-70页 |
| ·主要研究内容 | 第68-69页 |
| ·论文主要创新点 | 第69页 |
| ·需要进一步解决的问题 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-75页 |
| 个人简历 在学期间发表的学术论文及研究成果 | 第75页 |