| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-17页 |
| ·引言 | 第8页 |
| ·ZnO 的基本性质 | 第8-10页 |
| ·ZnO 的主要应用 | 第10-11页 |
| ·ZnO 基薄膜的制备技术 | 第11-14页 |
| ·磁控溅射 | 第11页 |
| ·真空蒸发法 | 第11-12页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD) | 第12页 |
| ·金属有机化学气相沉积(MOVCD) | 第12-13页 |
| ·溶胶-凝胶 | 第13-14页 |
| ·ZnO 基薄膜及其紫外光电导特性的研究概况 | 第14-16页 |
| ·本论文的研究内容 | 第16-17页 |
| 第二章 ZnO 基薄膜的制备及测试方法 | 第17-29页 |
| ·反应磁控溅射原理 | 第17-20页 |
| ·ZnO 基薄膜的制备 | 第20-22页 |
| ·实验的设备和材料 | 第20-22页 |
| ·衬底的清洗 | 第22页 |
| ·样品的制备工艺流程 | 第22页 |
| ·ZnO 基薄膜的测试方法 | 第22-29页 |
| ·X 射线衍射(XRD) | 第22-24页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第24-25页 |
| ·紫外-可见光谱分析 | 第25-26页 |
| ·光电性能测试 | 第26-29页 |
| 第三章 工艺参数对ZnO 基薄膜的影响及紫外光电导特性分析 | 第29-44页 |
| ·氧氩比的影响 | 第29-31页 |
| ·不同氧氩比对薄膜结构的影响 | 第30-31页 |
| ·不同氧氩比对薄膜光电特性的影响 | 第31页 |
| ·衬底温度的影响 | 第31-34页 |
| ·不同衬底温度对薄膜结构的影响 | 第32-34页 |
| ·不同衬底温度对薄膜光电特性的影响 | 第34页 |
| ·气压的影响 | 第34-37页 |
| ·不同气压对薄膜结构的影响 | 第35-36页 |
| ·不同气压对薄膜光电特性的影响 | 第36-37页 |
| ·紫外光电导特性分析 | 第37-42页 |
| ·小结 | 第42-44页 |
| 第四章 ZnO 薄膜的表面改性及对薄膜紫外光电导特性的影响 | 第44-53页 |
| ·表面重金属改性 | 第44-46页 |
| ·表面N 掺杂 | 第46-48页 |
| ·表面包覆层 | 第48-52页 |
| ·表面TiO_2包覆层 | 第48-50页 |
| ·表面AlN 包覆层 | 第50-52页 |
| ·小结 | 第52-53页 |
| 第五章 结论 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-58页 |
| 攻读硕士期间取得的成果 | 第58-59页 |