化学机械抛光中抛光垫的作用研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 符号说明 | 第7-8页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| CONTENTS | 第11-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-26页 |
| ·研究背景及意义 | 第14-16页 |
| ·国内外相关研究现状 | 第16-24页 |
| ·抛光垫材料种类及其性能 | 第16-18页 |
| ·抛光垫的物理机械性能对抛光效果的影响 | 第18-19页 |
| ·温度对抛光垫性能的影响 | 第19-20页 |
| ·抛光垫制备过程对其性能的影响 | 第20-21页 |
| ·抛光垫结构及其对抛光效果的影响 | 第21-22页 |
| ·抛光垫的修整 | 第22-24页 |
| ·课题来源及主要研究内容 | 第24-26页 |
| ·课题来源 | 第24页 |
| ·主要研究内容 | 第24-26页 |
| 第二章 抛光垫与工件间的接触作用模型 | 第26-37页 |
| ·随机表面的接触模型及赫兹理论 | 第26-29页 |
| ·随机表面接触的G-W模型 | 第26-27页 |
| ·弹性接触的赫兹理论 | 第27-29页 |
| ·抛光垫与工件、磨料的接触与材料去除率模型 | 第29-34页 |
| ·模型的评价与讨论 | 第34-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第三章 抛光垫的性能对抛光过程的影响 | 第37-49页 |
| ·实验条件 | 第37-39页 |
| ·抛光机 | 第37-38页 |
| ·工件材料 | 第38页 |
| ·磨料与抛光液 | 第38-39页 |
| ·检测方法与仪器 | 第39页 |
| ·抛光垫的材料 | 第39-41页 |
| ·抛光垫的材料种类 | 第39-40页 |
| ·抛光垫的性能 | 第40-41页 |
| ·抛光垫材料对抛光效果的影响 | 第41-44页 |
| ·抛光垫厚度对抛光效果的影响 | 第44-45页 |
| ·抛光垫浸水情况对抛光效果的影响 | 第45-46页 |
| ·抛光垫表面结构对抛光效果的影响 | 第46-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第四章 抛光垫修整的研究 | 第49-71页 |
| ·抛光垫修整装置研制 | 第49-52页 |
| ·修整密度及修整轨迹计算 | 第52-55页 |
| ·修整密度计算 | 第52-53页 |
| ·修整轨迹计算 | 第53-55页 |
| ·抛光垫修整实验研究 | 第55-58页 |
| ·修整器 | 第56-57页 |
| ·离线修整 | 第57页 |
| ·在线修整 | 第57-58页 |
| ·修整砂轮对修整效果的影响 | 第58-62页 |
| ·修整砂轮类型对修整效果的影响 | 第58-60页 |
| ·修整砂轮粒度对修整效果的影响 | 第60-62页 |
| ·离线修整工艺参数对修整的影响 | 第62-65页 |
| ·修整压力对修整效果的影响 | 第62-63页 |
| ·修整时间对修整效果的影响 | 第63页 |
| ·修整转速对修整效果的影响 | 第63-65页 |
| ·径向往复速度对修整效果的影响 | 第65页 |
| ·离线修整工艺参数对修整效果的综合影响 | 第65-67页 |
| ·抛光垫的在线修整 | 第67-70页 |
| ·修整时间起点对抛光效果的影响 | 第67-68页 |
| ·修整时间对抛光效果的影响 | 第68页 |
| ·修整时间间隔对抛光效果的影响 | 第68-70页 |
| ·本章小结 | 第70-71页 |
| 结论与展望 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-76页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第76-77页 |
| 独创性声明 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |
| 附录Ⅰ 修整轨迹计算程序清单 | 第79-80页 |
