磁激活等离子体增强化学气相沉积设备的研制
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-25页 |
| ·研究背景 | 第8页 |
| ·化学气相沉积 | 第8-10页 |
| ·化学气相沉积的原理 | 第9页 |
| ·化学气相沉积的特点 | 第9-10页 |
| ·化学气相沉积的存在的问题 | 第10页 |
| ·等离子体化学气相沉积 | 第10-15页 |
| ·等离子体简介 | 第11-12页 |
| ·等离子体的基本特征 | 第12-15页 |
| ·等离子体的产生 | 第15-21页 |
| ·气体放电 | 第15-16页 |
| ·气体放电的特点和应用 | 第16-17页 |
| ·辉光放电产生等离子体 | 第17-20页 |
| ·辉光放电的基本特征 | 第20-21页 |
| ·PECVD的成膜机理 | 第21-22页 |
| ·等离子体的带电粒子密度分布 | 第22-24页 |
| ·本文的研究内容 | 第24-25页 |
| 2 设备设计基本理论 | 第25-33页 |
| ·引言 | 第25-26页 |
| ·设计的理论基础 | 第26-33页 |
| ·沙哈方程 | 第26页 |
| ·热电子发射原理 | 第26-28页 |
| ·活化源原理 | 第28-30页 |
| ·磁场对等离子体的影响 | 第30-33页 |
| 3 设计方案及实施 | 第33-45页 |
| ·总体设计方案及实施 | 第33-40页 |
| ·真空系统 | 第34页 |
| ·离化源 | 第34-36页 |
| ·电子发射源 | 第36-37页 |
| ·活化电源 | 第37-38页 |
| ·磁控系统 | 第38-39页 |
| ·辅助系统 | 第39-40页 |
| ·工作原理 | 第40-41页 |
| ·等离子体的诊断 | 第41-45页 |
| 4 实验结果分析 | 第45-62页 |
| ·设备参数的影响 | 第45-57页 |
| ·磁场的分布 | 第45-46页 |
| ·磁场对离化源的影响 | 第46-48页 |
| ·电子发射源以及活化源对等离子场的影响 | 第48-49页 |
| ·磁场对活化源的影响 | 第49-54页 |
| ·离化源对活化源的影响 | 第54页 |
| ·活化源对离化源的影响 | 第54-56页 |
| ·气压对活化源的影响 | 第56-57页 |
| ·等离子聚合非晶碳薄膜实验 | 第57-61页 |
| ·引言 | 第57页 |
| ·等离子体聚合实验 | 第57-58页 |
| ·实验结果 | 第58-61页 |
| ·小结 | 第61页 |
| ·展望 | 第61-62页 |
| 结论 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-67页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 大连理工大学学位论文版权使用授权书 | 第69页 |
