| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-10页 |
| 引言 | 第10-12页 |
| 第一章 文献综述 | 第12-35页 |
| ·铁电材料及其应用 | 第12-16页 |
| ·铁电材料 | 第12-14页 |
| ·钙钛矿结构 | 第14-16页 |
| ·应用 | 第16页 |
| ·微波铁电材料 | 第16-25页 |
| ·微波可调原理 | 第16-20页 |
| ·微波铁电材料的应用背景 | 第20-22页 |
| ·微波铁电材料概况 | 第22-25页 |
| ·铁电薄膜制备方法 | 第25-32页 |
| ·射频磁控溅射法(RF Magnetron Sputtering) | 第25-29页 |
| ·其它薄膜制备方法 | 第29-32页 |
| ·提高铁电薄膜材料性能的方法 | 第32-33页 |
| ·掺杂 | 第32页 |
| ·缓冲层 | 第32-33页 |
| ·本论文的目的及意义 | 第33-35页 |
| 第二章 实验 | 第35-46页 |
| ·引言 | 第35页 |
| ·试验原料 | 第35-36页 |
| ·PST陶瓷块材及靶材制备用原料 | 第35-36页 |
| ·基板材料 | 第36页 |
| ·试验设备 | 第36-37页 |
| ·高能球磨机 | 第36页 |
| ·烘箱及加热炉 | 第36-37页 |
| ·射频磁控溅射仪 | 第37页 |
| ·测试方法 | 第37-39页 |
| ·X射线衍射 | 第37-38页 |
| ·扫描电镜(SEM) | 第38页 |
| ·电阻率测试 | 第38页 |
| ·介电性能测试 | 第38-39页 |
| ·铁电性能测试 | 第39页 |
| ·Mg掺杂 PST陶瓷块材的制备 | 第39-44页 |
| ·配方设计 | 第39-40页 |
| ·PST粉料的制备 | 第40-42页 |
| ·Mg掺杂 PST陶瓷块材的制备及测试 | 第42-43页 |
| ·陶瓷块材的制备流程 | 第43-44页 |
| ·Mg掺杂 PST薄膜的制备 | 第44-46页 |
| ·靶材的制备 | 第44页 |
| ·基板的清洗 | 第44页 |
| ·薄膜的制备 | 第44-46页 |
| 第三章 Mg掺杂 PST陶瓷结构及介电性能研究 | 第46-56页 |
| ·Pb_(0.6)Sr_(0.4)(Ti_(1-x)Mg_x)O_3陶瓷块体样品的结构研究 | 第47-51页 |
| ·Pb_(0.6)Sr_(0.4)(Ti_(1-x)Mg_x)O_3陶瓷块体样品的介电性能研究 | 第51-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第四章 射频磁控溅射制备 Mg掺杂 PST薄膜结构研究 | 第56-65页 |
| ·Mg掺杂 PST薄膜晶相形成研究 | 第56-58页 |
| ·溅射功率对薄膜致密度的影响 | 第58-60页 |
| ·Mg掺杂对 PST薄膜结构影响研究 | 第60-63页 |
| ·本章小结 | 第63-65页 |
| 第五章 射频磁控溅射制备 Mg掺杂 PST薄膜介电性能研究 | 第65-73页 |
| ·Mg掺杂量对 PST薄膜介电性能的影响 | 第65-67页 |
| ·Mg掺杂 PST单层薄膜的介电性能 | 第65-66页 |
| ·Mg掺杂 PST双层薄膜的介电性能 | 第66-67页 |
| ·Mg掺杂 PST双层薄膜的铁电性能 | 第67-68页 |
| ·Mg掺杂 PST薄膜介电性能对外加直流偏置场的响应 | 第68-72页 |
| ·本章小结 | 第72-73页 |
| 第六章 结论与展望 | 第73-75页 |
| ·结论 | 第73-74页 |
| ·展望 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-82页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第82-83页 |
| 致谢 | 第83页 |
