铝合金高频窄脉冲电抛光的工艺研究
| 第一章 绪论 | 第1-21页 |
| ·研究的背景及意义 | 第12-13页 |
| ·国内外光整加工技术的研究现状及发展趋势 | 第13-18页 |
| ·本文主要研究内容及工艺流程 | 第18-20页 |
| ·研究目标、研究内容及方法 | 第18-19页 |
| ·脉冲电流电化学抛光的基本工艺流程 | 第19页 |
| ·脉冲电流电化学抛光试验的过程示意图 | 第19-20页 |
| ·本章小结 | 第20-21页 |
| 第二章 脉冲电流电化学抛光的理论基础 | 第21-28页 |
| ·电化学抛光的电极反应 | 第21-23页 |
| ·电极的极化及阳极极化曲线 | 第23-24页 |
| ·电化学抛光的原理 | 第24-26页 |
| ·宏观整平机制 | 第24-25页 |
| ·微观整平机制 | 第25-26页 |
| ·脉冲电流电化学抛光的原理 | 第26-27页 |
| ·本章小结 | 第27-28页 |
| 第三章 脉冲电流电化学抛光的基础性试验 | 第28-44页 |
| ·脉冲电流电化学抛光的试验设备 | 第28-31页 |
| ·电化学抛光电源 | 第28-30页 |
| ·抛光槽 | 第30页 |
| ·阴极材料 | 第30页 |
| ·测量装置 | 第30-31页 |
| ·脉冲电流电化学抛光的电解液选择 | 第31-36页 |
| ·直流与脉冲电流电化学抛光结果的对比 | 第36-37页 |
| ·脉冲电流电化学抛光中各单因素的变化规律 | 第37-43页 |
| ·脉宽t_p对表面粗糙度的影响 | 第37-38页 |
| ·抛光电压U对表面粗糙度的影响 | 第38-39页 |
| ·抛光间隙δ对表面粗糙度的影响 | 第39-41页 |
| ·抛光时间t对表面粗糙度的影响 | 第41-42页 |
| ·脉冲占空比t_p/t_s对表面粗糙度的影响 | 第42-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章 脉冲电流电化学抛光的正交试验与数学建模 | 第44-60页 |
| ·正交试验方案的设计 | 第44-45页 |
| ·试验结果的极差分析和方差分析 | 第45-49页 |
| ·回归分析的原理 | 第49-56页 |
| ·数学建模和回归方程分析 | 第56-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 第五章 总结与展望 | 第60-62页 |
| ·工作总结 | 第60页 |
| ·工作展望 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-65页 |