| 第一章 引言 | 第1-16页 |
| ·金属铀的基本性质 | 第7-8页 |
| ·铀／铝界面行为研究现状 | 第8-14页 |
| ·铀铝合金相图 | 第8-11页 |
| ·Pd，Pt，C，noble metal／铀薄膜界面研究 | 第11-12页 |
| ·Al／铀薄膜界面研究 | 第12-13页 |
| ·铀／铝薄膜界面研究 | 第13-14页 |
| ·研究目的和意义 | 第14-16页 |
| 第二章 实验原理与理论计算简介 | 第16-23页 |
| ·俄歇电子能谱原理 | 第16-18页 |
| ·俄歇电子能谱在薄膜生长行为和膜／基界面研究中的应用 | 第18-21页 |
| ·薄膜覆盖度的表征 | 第18-19页 |
| ·薄膜生长方式的确定 | 第19-21页 |
| ·理论计算简介 | 第21-23页 |
| 第三章 实验内容 | 第23-29页 |
| ·实验样品 | 第23页 |
| ·实验仪器及装置 | 第23-24页 |
| ·实验内容与过程 | 第24-25页 |
| ·室温下铀表面沉积铝薄膜过程中AES和EELS原位分析 | 第24-25页 |
| ·室温下UO_2表面沉积铝薄膜过程中AES和EELS原位分析 | 第25页 |
| ·铀与铝薄膜界面氧化行为研究 | 第25页 |
| ·铝薄膜AES深度剖析 | 第25页 |
| ·实验分析深度 | 第25-29页 |
| ·元素含量定量分析 | 第25-26页 |
| ·谱峰重叠分离 | 第26-27页 |
| ·俄歇化学位移分析 | 第27-29页 |
| 第四章 室温下铀表面铝薄膜沉积过程中AES和EELS原位分析 | 第29-39页 |
| ·清洁铀表面逐步沉积铝薄膜过程中的界面反应研究 | 第29-37页 |
| ·清洁铀表面AES与EELS研究 | 第29-30页 |
| ·清洁铝表面AES与EELS研究 | 第30-31页 |
| ·逐步沉积铝薄膜过程中铀表面俄歇电子能谱研究 | 第31-33页 |
| ·逐步沉积铝薄膜过程中表面电子能量损失谱分析 | 第33-34页 |
| ·铝薄膜生长行为研究 | 第34-37页 |
| ·清洁铀表面连续沉积铝薄膜过程中的界面反应研究 | 第37-38页 |
| ·小结 | 第38-39页 |
| 第五章 室温下UO_2表面铝薄膜沉积过程中AES和EELS原位分析 | 第39-49页 |
| ·二氧化铀表面AES和EELS研究 | 第39-41页 |
| ·沉积铝薄膜过程中二氧化铀表面俄歇电子能谱分析 | 第41-44页 |
| ·逐步沉积铝薄膜过程中的AES研究 | 第41-43页 |
| ·铝薄膜表面和界面AES深度剖析 | 第43-44页 |
| ·沉积铝薄膜过程中二氧化铀表面电子能量损失谱分析 | 第44-45页 |
| ·UO_2表面铝薄膜生长过程研究 | 第45-47页 |
| ·小结 | 第47-49页 |
| 第六章 铀／铝薄膜界面反应行为的AES研究 | 第49-56页 |
| ·室温下铀／铝薄膜界面氧化行为研究 | 第49-52页 |
| ·金属铀／铝薄膜界面的AES研究 | 第49页 |
| ·室温下铀／铝界面氧化行为的AES研究 | 第49-52页 |
| ·退火以后铀与铝薄膜之间的界面反应研究 | 第52-55页 |
| ·铝薄膜加热过程中的AES研究 | 第52页 |
| ·铝薄膜退火以后AES深度剖析 | 第52-55页 |
| ·小结 | 第55-56页 |
| 第七章 金属铀和UO_2(001)面吸附铝原子的密度泛函研究 | 第56-62页 |
| ·金属铀和UO_2表面结构优化结果 | 第56-58页 |
| ·α-U和UO_2晶体优化结果 | 第56-57页 |
| ·α-U和UO_2的(001)面优化结果 | 第57-58页 |
| ·金属铀(001)面和UO_2(001)面吸附铝原子的计算结果 | 第58-61页 |
| ·金属铀(001)面吸附铝原子的计算结果 | 第58-59页 |
| ·UO_2(001)面吸附铝原子的计算结果 | 第59-61页 |
| ·小结 | 第61-62页 |
| 第八章 结束语 | 第62-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
| 附录 | 第69页 |
