| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-12页 |
| 1 绪论 | 第12-31页 |
| ·WDM 技术的发展趋势 | 第12-14页 |
| ·光学薄膜在DWDM 系统中的应用 | 第14-16页 |
| ·光学薄膜设计技术的回顾与发展状况 | 第16-19页 |
| ·光学薄膜设计技术在DWDM 中光学薄膜的应用状况 | 第19-20页 |
| ·二氧化钒薄膜研究的最新进展 | 第20-23页 |
| ·高品质VO_2 薄膜制备技术的探索 | 第21-22页 |
| ·降低VO_2 相变温度的研究进展情况 | 第22-23页 |
| ·薄膜制备技术的发展状况 | 第23-30页 |
| ·电阻蒸镀与电子束蒸镀 | 第24-26页 |
| ·离子辅助沉积 | 第26-27页 |
| ·等离子辅助沉积(PIAD) | 第27-28页 |
| ·离子束溅射 | 第28-29页 |
| ·磁控溅射 | 第29-30页 |
| ·DWDM 滤光片测试技术的发展状况 | 第30页 |
| ·本文要做的工作 | 第30-31页 |
| 2 光学薄膜的特性计算及误差分析理论 | 第31-43页 |
| ·薄膜特性的计算 | 第31-32页 |
| ·光学薄膜膜系的误差分析 | 第32-41页 |
| ·膜系误差的孤立灵敏度与各层相对灵敏度分析 | 第33-35页 |
| ·膜系误差的允差分析 | 第35-41页 |
| ·群延迟(Group Delay) | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 3 DWDM 窄带滤光片 | 第43-68页 |
| ·单腔窄带滤光片的基本结构 | 第43-44页 |
| ·F-P 型多腔窄带滤光片的基本结构 | 第44-45页 |
| ·DWDM 100GHz 窄带滤光片的设计要求 | 第45-47页 |
| ·基板和薄膜材料 | 第47-48页 |
| ·DWDM 100GHz 窄带滤光片的膜系设计 | 第48-54页 |
| ·虚设层概念的应用 | 第48-50页 |
| ·DWDM 100GHz 薄膜型窄带滤光片设计基本原理 | 第50-54页 |
| ·DWDM 100GHz 窄带滤光片原始膜系的设计结果 | 第54-56页 |
| ·膜系的容差分析 | 第56-59页 |
| ·相对灵敏度分析 | 第59-60页 |
| ·薄膜的淀积的光学监控过程的模拟 | 第60-61页 |
| ·最终设计 | 第61-62页 |
| ·群延迟 | 第62-63页 |
| ·监控策略 | 第63-64页 |
| ·监控系统的改进 | 第64页 |
| ·结果 | 第64-65页 |
| ·讨论 | 第65-66页 |
| ·本章小结 | 第66-68页 |
| 4 CWDM 窄带滤光片 | 第68-83页 |
| ·CWDM 滤光片的设计要求 | 第68-69页 |
| ·CWDM 滤光片的膜系设计 | 第69-73页 |
| ·CWDM 滤光片膜系的设计结果 | 第73-74页 |
| ·误差分析 | 第74-78页 |
| ·最终设计结果 | 第78-79页 |
| ·监控策略 | 第79页 |
| ·结果 | 第79-81页 |
| ·讨论 | 第81页 |
| ·本章小结 | 第81-83页 |
| 5 WDM 窄带滤光片测试系统 | 第83-99页 |
| ·Agilent8164A 光波测量系统 | 第83-86页 |
| ·测试原理 | 第83-84页 |
| ·测试系统缺陷 | 第84-85页 |
| ·可调谐激光器和功率计的功能 | 第85-86页 |
| ·WDM 自动测试系统的构成 | 第86-96页 |
| ·自动测试软件各模块的设计 | 第87-96页 |
| ·测试装置 | 第96-98页 |
| ·本章小结 | 第98-99页 |
| 6 DWDM 干涉截止滤光片 | 第99-109页 |
| ·结构和基本技术指标 | 第99-100页 |
| ·结构 | 第99页 |
| ·基本技术指标 | 第99-100页 |
| ·膜系设计 | 第100-103页 |
| ·薄膜材料和基板 | 第100页 |
| ·评价函数与约束条件 | 第100-101页 |
| ·设计结果 | 第101-102页 |
| ·膜系的误差分析 | 第102-103页 |
| ·薄膜制备与膜层的监控策略 | 第103-106页 |
| ·测试结果 | 第106-108页 |
| ·光谱测试曲线 | 第106-108页 |
| ·本章小结 | 第108-109页 |
| 7 微小偏振分束器的设计与制造 | 第109-118页 |
| ·器件的结构与主要技术指标 | 第109-110页 |
| ·PBS 棱镜的结构 | 第109-110页 |
| ·主要技术指标如表7.1 所示 | 第110页 |
| ·PBS 膜系的设计 | 第110-113页 |
| ·膜系的设计 | 第110-112页 |
| ·膜系的误差分析 | 第112-113页 |
| ·薄膜制备与膜层的监控策略 | 第113-114页 |
| ·棱镜的胶合与s 光和p 光光轴的平行度调试 | 第114-115页 |
| ·测试结果 | 第115-117页 |
| ·本章小结 | 第117-118页 |
| 8 薄膜制备技术研究 | 第118-130页 |
| ·电子束、离子辅助镀和溅射法3 种工艺对薄膜性能的影响 | 第118-121页 |
| ·3 种工艺对薄膜折射率的影响 | 第118-119页 |
| ·三种工艺对薄膜表面粗糙度的影响 | 第119-120页 |
| ·3种工艺对薄膜吸收的影响 | 第120-121页 |
| ·二氧化钒薄膜制备 | 第121-125页 |
| ·薄膜制备 | 第122-123页 |
| ·结果和讨论 | 第123-125页 |
| ·DWDM 滤光片膜层纳米尺度的变化与光谱特性 | 第125页 |
| ·ITO 薄膜制备和材料混合掺杂技术 | 第125-127页 |
| ·Ta_2O_5和Nb_2O_5 混合掺杂及WDM 薄膜滤光片退火技术 | 第127-128页 |
| ·NB_2O_5 和Ta_2O_5 混合掺杂技术 | 第127-128页 |
| ·退火消除DWDM 滤光片的薄膜应力 | 第128页 |
| ·本章小结 | 第128-130页 |
| 全文总结与展望 | 第130-132页 |
| 致谢 | 第132-133页 |
| 参考文献 | 第133-142页 |
| 附录 1 攻读博士学位期间所发表的论文 | 第142-143页 |
| 附录 2 制造 WDM 滤光片的主要工艺、技术路线 | 第143页 |
