光栅型平面光波导波分复用器件的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第一章.绪论 | 第8-25页 |
| §1.1 目的与意义：光纤通信与波分复用技术 | 第8-10页 |
| §1.2 波分复用系统概述 | 第10-17页 |
| ·波分复用系统中的关键器件 | 第11-13页 |
| ·不同的WDM实现技术及比较 | 第13-17页 |
| §1.3 波分复用器件的研究现状及发展趋势 | 第17-19页 |
| §1.4 本论文主要工作及成果 | 第19-20页 |
| 参考文献 | 第20-25页 |
| 第二章 光栅型波分复用器件原理及数值计算方法 | 第25-45页 |
| §2.1 AWG波分复用器件原理 | 第25-27页 |
| §2.2 EDG波分复用器件原理 | 第27-31页 |
| §2.3 光波导器件的数值模拟方法 | 第31-43页 |
| ·有效折射率法 | 第31-32页 |
| ·束传播方法 | 第32-39页 |
| ·有限差分法 | 第39-43页 |
| 参考文献 | 第43-45页 |
| 第三章 蚀刻衍射光栅波分复用器的性能分析 | 第45-78页 |
| §3.1 蚀刻衍射光栅的像差分析 | 第45-51页 |
| §3.2 蚀刻衍射光栅的标量波动分析 | 第51-57页 |
| §3.3 全内反射结构光栅槽面的衍射效率分析 | 第57-66页 |
| §3.4 工艺误差对器件性能的影响 | 第66-75页 |
| ·光栅槽面缺陷对插入损耗的影响 | 第66-70页 |
| ·相位和振幅误差对串扰的影响 | 第70-75页 |
| 参考文献 | 第75-78页 |
| 第四章 光栅型波分复用器件的优化设计 | 第78-101页 |
| §4.1 大通道数EDG器件的设计 | 第78-84页 |
| §4.2 EDG器件的频谱平坦化设计 | 第84-88页 |
| §4.3 平场型EDG器件的设计 | 第88-93页 |
| §4.4 偏振不敏感AWG器件的设计 | 第93-98页 |
| 参考文献 | 第98-101页 |
| 第五章 硅基二氧化硅器件的实验制作 | 第101-129页 |
| §5.1 PECVD方法沉积氧化硅薄膜 | 第101-110页 |
| ·PECVD原理 | 第101-105页 |
| ·氧化硅薄膜沉积工艺 | 第105-110页 |
| §5.2 光波导的制作 | 第110-118页 |
| §5.3 蚀刻衍射光栅的实验制作 | 第118-123页 |
| §5.4 偏振不敏感AWG的实验制作 | 第123-126页 |
| 参考文献 | 第126-129页 |
| 第六章 离子交换波导器件的设计与制作 | 第129-154页 |
| §6.1 概述 | 第129-131页 |
| §6.2 折射率变化的原因 | 第131-132页 |
| §6.3 离子交换过程的数值模拟 | 第132-140页 |
| §6.4 离子交换波导的弯曲损耗 | 第140-144页 |
| §6.5 K~+-Na~+离子交换工艺 | 第144-148页 |
| §6.6 离子交换波导器件的制作 | 第148-152页 |
| 参考文献 | 第152-154页 |
| 第七章 总结 | 第154-157页 |
| 攻读博士期间发表的论文和申请的专利 | 第157-159页 |
| 致谢 | 第159页 |
