| 第一章 绪论 | 第1-23页 |
| 1．1 微生物危害及抗菌材料的必要性 | 第10-12页 |
| 1．1．1 微生物及其危害 | 第10-11页 |
| 1．1．2 微生物在材料表面的生长 | 第11页 |
| 1．1．3 常见的微生物抑制方法 | 第11-12页 |
| 1．2 抗菌材料的发展 | 第12-13页 |
| 1．3 纳米TiO_2光催化抗菌剂的制备方法 | 第13-15页 |
| 1．4 纳米TiO_2膜的制备方法 | 第15-18页 |
| 1．4．1 基于纳米TiO_2溶胶的涂层方法 | 第15-16页 |
| 1．4．2 制备TiO_2电化学方法 | 第16-17页 |
| 1．4．2．1 阳极电沉积法 | 第16页 |
| 1．4．2．2 阴极电沉积法 | 第16页 |
| 1．4．2．3 电泳法制备TiO_2超微粒薄膜 | 第16-17页 |
| 1．4．3 制备TiO_2薄膜的化学气相沉淀法 | 第17页 |
| 1．4．4 制备TiO_2薄膜的物理方法 | 第17页 |
| 1．4．5 制备TiO_2薄膜的组装方法 | 第17-18页 |
| 1．4．6 喷雾热分解法 | 第18页 |
| 1．5 抗菌剂抗菌动力学 | 第18-22页 |
| 1．5．1 影响抗菌剂抗菌性能的主要因素 | 第18-21页 |
| 1．5．1．1 抗菌剂的化学组成(品种) | 第18-19页 |
| 1．5．1．2 抗菌剂的分散状态 | 第19页 |
| 1．5．1．3 抗菌剂的浓度 | 第19页 |
| 1．5．1．4 微生物种类和生理构造 | 第19-20页 |
| 1．5．1．5 微生物生理状态和变异状况 | 第20页 |
| 1．5．1．6 环境因素 | 第20-21页 |
| 1．5．2 正常增殖条件下微生物生长动力学 | 第21-22页 |
| 1．6 研究思路 | 第22-23页 |
| 1．6．1 研究目的 | 第22页 |
| 1．6．2 实验方法 | 第22-23页 |
| 第二章 纳米粉体抗菌性能的研究 | 第23-43页 |
| 2．1 试验部分 | 第23-27页 |
| 2．1．1 设备和试剂 | 第23-24页 |
| 2．1．2 试验准备 | 第24-25页 |
| 2．1．2．1 抗菌剂悬浮液制备和稀释 | 第24页 |
| 2．1．2．2 受试菌液制备 | 第24页 |
| 2．1．2．3 培养基及溶液的配制 | 第24-25页 |
| 2．1．2．4 玻璃器皿的灭菌 | 第25页 |
| 2．1．3 操作步骤 | 第25-26页 |
| 2．1．3．1 培养基准备 | 第25页 |
| 2．1．3．2 菌液活化 | 第25页 |
| 2．1．3．3 菌液稀释 | 第25页 |
| 2．1．3．4 “0”接触时间菌落数 | 第25-26页 |
| 2．1．3．5 接种 | 第26页 |
| 2．1．3．6 光照 | 第26页 |
| 2．1．3．7 培养计数 | 第26页 |
| 2．1．4 菌落数计算 | 第26-27页 |
| 2．1．4．1 平皿菌落数的选择 | 第26页 |
| 2．1．4．2 菌落计数方法 | 第26页 |
| 2．1．4．3 结果计算 | 第26-27页 |
| 2．2 最低抑菌浓度与最高杀菌浓度的测定 | 第27页 |
| 2．2．1 最低抑菌浓度测定 | 第27页 |
| 2．2．1．1 抗菌剂准备 | 第27页 |
| 2．2．1．2 MIC的测定 | 第27页 |
| 2．2．2 最高杀菌浓度测定 | 第27页 |
| 2．2．2．1 抗菌剂准备 | 第27页 |
| 2．2．2．2 MBC测定 | 第27页 |
| 2．3 抑菌圈实验 | 第27-28页 |
| 2．4 光催化型抗菌剂的抗菌机理 | 第28-30页 |
| 2．5 结果与讨论 | 第30-41页 |
| 2．5．1 最低抑菌浓度与最高杀菌浓度的测定结果 | 第30-31页 |
| 2．5．1．1 最低抑菌浓度的测定结果 | 第30-31页 |
| 2．5．1．2 最高杀菌浓度的测定结果 | 第31页 |
| 2．5．2 煅烧温度对纳米颗粒抗菌效果的影响 | 第31-34页 |
| 2．5．2．1 不同煅烧温度的锐钛型TiO_2的抗菌对照 | 第31-32页 |
| 2．5．2．2 不同煅烧温度的锐钛型ZnO的抗菌对照 | 第32-34页 |
| 2．5．3 pH值对抗菌效果的影响 | 第34-36页 |
| 2．5．3．1 pH值对TiO_2(G400)抗菌效果的影响 | 第34-35页 |
| 2．5．3．2 pH值对ZnO(G400)抗菌效果的影响 | 第35-36页 |
| 2．5．4 浓度对抗菌效果的影响 | 第36-38页 |
| 2．5．4．1 TiO_2(G400)不同浓度下的抗菌效果 | 第36-37页 |
| 2．5．4．2 ZnO(G400)不同浓度下的抗菌效果 | 第37-38页 |
| 2．5．5 光照时间对抗菌效果的影响 | 第38-40页 |
| 2．5．5．1 光照时间对TiO_2(G400)抗菌效果的影响 | 第38-39页 |
| 2．5．5．2 光照时间对ZnO(G400)抗菌效果的影响 | 第39-40页 |
| 2．5．6 抑菌圈试验 | 第40-41页 |
| 2．5．6．1 TiO_2(G400)抑菌试验效果 | 第40-41页 |
| 2．5．6．2 ZnO(G400)抑菌试验效果 | 第41页 |
| 2．6 TiO_2薄膜的TEM分析 | 第41-42页 |
| 2．7 本章小结 | 第42-43页 |
| 第三章 TiO_2薄膜抗菌性能的研究 | 第43-53页 |
| 3．1 TiO_2薄膜的制备 | 第43-44页 |
| 3．2 纳米薄膜抗菌试验的研究 | 第44-46页 |
| 3．2．1 试验准备 | 第44-45页 |
| 3．2．1．1 受试菌株准备 | 第44页 |
| 3．2．1．2 培养基及溶液的配制 | 第44-45页 |
| 3．2．1．3 玻璃器皿的灭菌 | 第45页 |
| 3．2．1．4 抗菌剂的准备 | 第45页 |
| 3．2．2 操作步骤 | 第45-46页 |
| 3．2．2．1 培养基准备 | 第45页 |
| 3．2．2．2 菌液活化 | 第45页 |
| 3．2．2．3 “0”接触时间菌落数测定 | 第45页 |
| 3．2．2．4 接种 | 第45页 |
| 3．2．2．5 活菌计数 | 第45-46页 |
| 3．2．2．6 结果计算 | 第46页 |
| 3．3 结果与讨论 | 第46-49页 |
| 3．3．1 纳米陶瓷的抗菌效果 | 第46页 |
| 3．3．2 光照时间对抗菌效果的影响 | 第46-47页 |
| 3．3．3 不同热处理温度的镀膜陶瓷抗菌性研究 | 第47-48页 |
| 3．3．4 不同介质浸渍样品的抗菌效果 | 第48页 |
| 3．3．5 抗菌产品耐久性试验 | 第48-49页 |
| 3．4 TiO_2薄膜的XRD、SEM分析 | 第49-52页 |
| 3．5 TiO_2薄膜的EDS分析 | 第52页 |
| 3．6 本章小结 | 第52-53页 |
| 第四章 全文总结 | 第53-55页 |
| 4．1 影响抗菌剂抗菌能力的因素 | 第53-54页 |
| 4．1．1 热处理温度的影响 | 第53页 |
| 4．1．2 抗菌剂的浓度的影响 | 第53页 |
| 4．1．3 光照时间的影响 | 第53-54页 |
| 4．1．4 pH值对抗菌效果的影响 | 第54页 |
| 4．2 最低抑菌浓度和最高杀菌浓度 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-58页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59页 |
