摘要 | 第1-7页 |
ABSTRACT | 第7-20页 |
第一章 绪论 | 第20-35页 |
·引言 | 第20页 |
·光固化体系 | 第20-21页 |
·紫外光固化的反应机理 | 第21页 |
·光引发剂 | 第21-23页 |
·自由基型光引发剂 | 第22页 |
·阳离子型光引发剂 | 第22-23页 |
·大分子光引发剂 | 第23-26页 |
·自由基型大分子光引发剂研究进展 | 第23-25页 |
·阳离子型大分子光引发剂研究进展 | 第25-26页 |
·含硅光引发剂 | 第26-29页 |
·梯度聚合 | 第29-32页 |
·梯度聚合物材料 | 第29-31页 |
·梯度聚合物材料的应用 | 第31-32页 |
·氧阻聚 | 第32-34页 |
·氧阻聚机理 | 第32-33页 |
·降低氧阻聚的方法 | 第33-34页 |
·课题的目的、意义和研究内容 | 第34-35页 |
·课题的目的、意义 | 第34页 |
·课题的研究内容 | 第34-35页 |
第二章 夺氢型有机硅大分子光引发剂的合成与性能表征 | 第35-55页 |
·实验原料及仪器 | 第35-36页 |
·实验原料 | 第35页 |
·实验仪器 | 第35-36页 |
·实验方法 | 第36-39页 |
·夺氢型有机硅大分子光引发剂 HBP-Si-X 的制备 | 第36页 |
·夺氢型有机硅大分子光引发剂 HBP-Si-A 的制备 | 第36-37页 |
·分子量梯度聚合物圆柱体的制备 | 第37页 |
·结构表征及性能测试 | 第37-39页 |
·结果与讨论 | 第39-54页 |
·夺氢型有机硅光引发剂的结构表征 | 第39-42页 |
·光引发剂紫外吸收与光降解性能 | 第42-45页 |
·光引发剂光聚合动力学 | 第45-48页 |
·光引发剂表面迁移性能 | 第48-49页 |
·XPS 检测不同垂直高度下 Si 元素含量的变化 | 第49-50页 |
·Si 元素含量与微观形貌变化 | 第50-51页 |
·GPC 检测不同垂直高度下聚合物的分子量 | 第51-52页 |
·氧阻聚性能 | 第52-54页 |
·结论 | 第54-55页 |
第三章 有机硅链段长度对光引发剂性能的影响 | 第55-73页 |
·实验原料及仪器 | 第55-56页 |
·实验原料 | 第55页 |
·实验仪器 | 第55-56页 |
·实验方法 | 第56-59页 |
·具有不同硅链段长度的光引发剂 HBP-Si-A/B/C 的制备 | 第56页 |
·分子量梯度聚合物的制备 | 第56-59页 |
·结构表征及性能测试 | 第59页 |
·结果与讨论 | 第59-71页 |
·有机硅光引发剂的结构表征 | 第59-61页 |
·紫外吸收与光降解性能 | 第61-63页 |
·光聚合动力学 | 第63-64页 |
·表面迁移性能对比 | 第64-65页 |
·梯度聚合性能对比 | 第65-66页 |
·接触角对比 | 第66-68页 |
·表面微观形貌 | 第68-71页 |
·结论 | 第71-73页 |
第四章 裂解型有机硅大分子光引发剂的合成与性能研究 | 第73-98页 |
·实验原料及仪器 | 第73-74页 |
·实验原料 | 第73-74页 |
·实验仪器 | 第74页 |
·实验方法 | 第74-77页 |
·裂解型有机硅大分子光引发剂 NH_2-2959-2 的制备 | 第74-75页 |
·裂解型有机硅大分子光引发剂 NH_2-2959-4 的制备 | 第75-76页 |
·可聚合裂解型有机硅大分子光引发剂 NH_2-2959-CC 的合成 | 第76-77页 |
·表征方法 | 第77页 |
·结果与讨论 | 第77-96页 |
·裂解型有机硅光引发剂的结构表征 | 第77-83页 |
·紫外吸收与光降解性能 | 第83-86页 |
·光引发剂光聚合动力学 | 第86-89页 |
·光引发剂表面迁移性能 | 第89-92页 |
·XPS 检测不同垂直高度下 Si 元素含量的变化 | 第92页 |
·GPC 检测不同垂直高度下聚合物的分子量 | 第92-93页 |
·氧阻聚性能 | 第93-96页 |
·结论 | 第96-98页 |
第五章 主要结论 | 第98-101页 |
参考文献 | 第101-105页 |
致谢 | 第105-106页 |
研究成果及发表的学术论文 | 第106-107页 |
作者简介 | 第107-108页 |
导师简介 | 第108-109页 |
附录 | 第109-110页 |