| 第一章 有机无机半导体复合材料 | 第1-33页 |
| ·最重要的半导体材料--硅 | 第8-9页 |
| ·有机半导体材料 | 第9-12页 |
| ·有机半导体器件 | 第12-17页 |
| ·有机光电导体(Organic photoconductors，OPC) | 第12-13页 |
| ·有机电致发光(Electroluminescence，EL) | 第13-15页 |
| ·场效应管(Field-effect Transistors，FET) | 第15-16页 |
| ·有机太阳能电池(Organic solar cells) | 第16-17页 |
| ·有机无机半导体的复合材料 | 第17-18页 |
| ·各类有机无机半导体复合材料的制备方法 | 第18-23页 |
| ·LBL法自组装成膜 | 第18-19页 |
| ·化学键合制备有机膜 | 第19-23页 |
| ·以烷氧硅偶联剂为过渡的单层膜 | 第20-22页 |
| ·碳硅键直接链接的单层膜 | 第22-23页 |
| ·其他的制备方式 | 第23页 |
| ·有机无机半导体复合材料的应用 | 第23-27页 |
| ·本章小结 | 第27页 |
| 参考文献 | 第27-33页 |
| 第二章 硅基上苝酐单层膜的研究 | 第33-56页 |
| ·实验部分 | 第33-38页 |
| ·试剂与样品 | 第33-34页 |
| ·测试仪器 | 第34页 |
| ·材料的合成与制备 | 第34-38页 |
| ·PTCDA的提纯 | 第34-35页 |
| ·PTCDA的真空蒸镀 | 第35页 |
| ·单晶硅片及石英的清洗 | 第35-36页 |
| ·硅片及石英片的亲水化处理 | 第36页 |
| ·偶联剂(APS)处理亲水性硅表面 | 第36-37页 |
| ·PTCDA共价链接于硅基表面 | 第37-38页 |
| ·PTCDA在经过化学修饰后的硅基上成膜 | 第38页 |
| ·材料的性能表征 | 第38-43页 |
| ·傅立叶红外光谱分析 | 第38-39页 |
| ·材料能带结构表征 | 第39-40页 |
| ·UV／Vis吸收光谱 | 第40页 |
| ·X-ray衍射 | 第40-41页 |
| ·光电子能谱 | 第41-42页 |
| ·原子力显微镜 | 第42页 |
| ·激光拉曼光谱分析 | 第42-43页 |
| ·结果与讨论 | 第43-53页 |
| ·单层膜的红外光谱分析 | 第43页 |
| ·PTCDA能带结构分析 | 第43-45页 |
| ·光电子能谱分析(XPS) | 第45-46页 |
| ·单层膜的表面形貌分析 | 第46-47页 |
| ·单层膜的紫外-可见光谱分析 | 第47-49页 |
| ·X-ray衍射分析 | 第49-50页 |
| ·拉曼光谱分析 | 第50-51页 |
| ·表面光电压谱分析 | 第51-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-56页 |
| 第三章 硅基上的酞菁单层膜的研究 | 第56-67页 |
| ·实验部分 | 第56-59页 |
| ·试剂与样品 | 第56页 |
| ·测试仪器 | 第56页 |
| ·材料的合成与制备 | 第56-59页 |
| ·四羧基酞菁铜(TCPc)的制备和性能表征 | 第56-58页 |
| ·四羧基酞菁共价链接于硅基表面 | 第58-59页 |
| ·结果与讨论 | 第59-65页 |
| ·四羧基酞菁的红外吸收光谱的研究 | 第59-60页 |
| ·循环-伏安测试 | 第60-61页 |
| ·四羧基酞菁的紫外-可见光吸收光谱的研究 | 第61-62页 |
| ·表面形貌分析 | 第62页 |
| ·光电子能谱分析 | 第62-63页 |
| ·单层膜的紫外-可见光谱吸收 | 第63-65页 |
| ·本章小结 | 第65页 |
| 参考文献 | 第65-67页 |
| 第四章 吡啶-苝酰亚胺的合成与性能研究 | 第67-74页 |
| ·实验部分 | 第67-73页 |
| ·试剂与样品 | 第67页 |
| ·测试仪器 | 第67页 |
| ·吡啶-苝酰亚胺(DPP)的合成 | 第67-68页 |
| ·吡啶-苝酰亚胺的升华提纯 | 第68-69页 |
| ·吡啶-苝酰亚胺的物理性质 | 第69页 |
| ·红外吸收光谱分析 | 第69-70页 |
| ·紫外-可见光谱分析 | 第70-71页 |
| ·X-Ray衍射分析 | 第71-72页 |
| ·能带结构分析 | 第72-73页 |
| ·本章小结 | 第73页 |
| 参考文献 | 第73-74页 |
| 总结 | 第74-75页 |
| 作者简介 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76页 |
