| 中文摘要 | 第1-6页 |
| 英文摘要 | 第6-11页 |
| 第一章 引言 | 第11-13页 |
| 第二章 文献综述 | 第13-33页 |
| 2．1 氧化锌的晶格结构 | 第13-14页 |
| 2．2 氧化锌薄膜的应用 | 第14-22页 |
| 2．2．1 ZnO薄膜光电性质的应用 | 第14-15页 |
| 2．2．2 ZnO薄膜压电性质的应用 | 第15-17页 |
| 2．2．3 ZnO薄膜集成光学上的应用 | 第17-20页 |
| 2．2．3．1 关于集成光学以及其优点 | 第17-19页 |
| 2．2．3．2 ZnO薄膜在集成光学上的广泛应用 | 第19-20页 |
| 2．2．4 ZnO薄膜作为缓冲层的应用 | 第20-22页 |
| 2．3 氧化锌薄膜的制备方法 | 第22-31页 |
| 2．3．1 真空蒸发镀膜法 | 第22-23页 |
| 2．3．2 溅射镀膜法 | 第23-24页 |
| 2．3．3 射频反应离子镀法 | 第24-25页 |
| 2．3．4 喷射热分解法 | 第25-26页 |
| 2．3．5 化学气相沉积法 | 第26-28页 |
| 2．3．6 溶胶凝胶法 | 第28-31页 |
| 2．4 选题角度的确定 | 第31-33页 |
| 第三章 溶胶-凝胶旋涂法制备掺杂ZnO薄膜 | 第33-40页 |
| 3．1 溶胶凝胶体系的选用 | 第33页 |
| 3．2 实验设备与器材 | 第33页 |
| 3．3 试样制备过程 | 第33-36页 |
| 3．3．1 主要原料 | 第34页 |
| 3．3．2 掺杂溶胶溶液的配制 | 第34页 |
| 3．3．3 玻璃基板的清洗 | 第34页 |
| 3．3．4 旋转镀膜和热处理 | 第34-36页 |
| 3．4 测试方法 | 第36-40页 |
| 3．4．1 膜结构的测试 | 第36-38页 |
| 3．4．2 薄膜的厚度的测定 | 第38页 |
| 3．4．3 薄膜的电阻率的测定 | 第38页 |
| 3．4．4 薄膜的介电常数的测定 | 第38-39页 |
| 3．4．5 薄膜的光透过率、吸收率和折射率的测定 | 第39-40页 |
| 第四章 掺杂Li和Mg的ZnO薄膜的形成和结构分析 | 第40-62页 |
| 4．1 实验结果部分 | 第40-52页 |
| 4．1．1 薄膜样品的制备条件 | 第40-42页 |
| 4．1．2 薄膜厚度 | 第42页 |
| 4．1．3 XRD图谱 | 第42-49页 |
| 4．1．4 SEM、TEM和AFM结果 | 第49-52页 |
| 4．2 分析和讨论 | 第52-60页 |
| 4．2．1 薄膜的形成过程 | 第53-55页 |
| 4．2．2 薄膜厚度对薄膜结晶取向以及形貌的影响 | 第55-57页 |
| 4．2．3 掺杂浓度对薄膜结晶取向以及形貌的影响 | 第57-58页 |
| 4．2．4 热处理温度对薄膜结晶取向以及形貌的影响 | 第58-59页 |
| 4．2．5 基板对薄膜结晶取向的影响 | 第59-60页 |
| 4．3 本章小结 | 第60-62页 |
| 第五章 掺Li和Mg的ZnO薄膜的性能分析 | 第62-77页 |
| 5．1 实验结果部分 | 第62-71页 |
| 5．1．1 薄膜的电阻率和介电常数 | 第62-64页 |
| 5．1．2 薄膜的光学性能 | 第64-71页 |
| 5．2 分析和讨论 | 第71-75页 |
| 5．2．1 薄膜电阻率和介电常数分析 | 第71-73页 |
| 5．2．2 薄膜折射率和透过率分析 | 第73-74页 |
| 5．2．3 薄膜光学能隙分析 | 第74-75页 |
| 5．3 本章小结 | 第75-77页 |
| 第六章 结论 | 第77-79页 |
| 参考文献 | 第79-82页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第82-83页 |
| 致谢 | 第83页 |