摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-8页 |
第1章 绪论 | 第8-13页 |
·前言 | 第8-9页 |
·磁记录技术发展历程 | 第9-13页 |
第2章 磁记录概述 | 第13-31页 |
·磁记录原理及方式 | 第13-19页 |
·信息的记录方式 | 第13-14页 |
·纵向磁记录模式 | 第14-16页 |
·垂直磁记录模式 | 第16-19页 |
·几个磁记录介质材料的重要参数 | 第19-26页 |
·磁畴 | 第19-20页 |
·矫顽力 | 第20-22页 |
·磁各向异性 | 第22-24页 |
·超顺磁极限尺寸 | 第24页 |
·相互作用 | 第24-26页 |
·具有潜力的高密度记录介质材料 | 第26-27页 |
·FePt薄膜低温有序化 | 第27-28页 |
·磁记录技术展望 | 第28-30页 |
·倾斜磁记录 | 第28-29页 |
·热辅助磁记录 | 第29页 |
·图案介质 | 第29页 |
·自排列磁体阵列 | 第29-30页 |
·本章小结 | 第30-31页 |
第3章 薄膜的制备和表征 | 第31-41页 |
·薄膜的制备 | 第31-33页 |
·薄膜的特性表征 | 第33-39页 |
·薄膜厚度的测量 | 第33-36页 |
·薄膜宏观磁性测量 | 第36-38页 |
·薄膜表面形貌和磁畴 | 第38-39页 |
·本实验所采用的实验设备 | 第39页 |
·样品的制备和预处理 | 第39-40页 |
·本章小结 | 第40-41页 |
第4章 Bi/FePt/C磁性薄膜的制备、磁特性和微结构 | 第41-53页 |
·引言 | 第41页 |
·制备样品 | 第41-42页 |
·不同厚度Bi缓冲层对Bi/FePt/C薄膜微结构和磁特性的影响 | 第42-45页 |
·制备样品 | 第42页 |
·磁特性和微结构 | 第42-45页 |
·不同厚度FePt磁性层对Bi/FePt/C薄膜微结构和磁特性的影响 | 第45-47页 |
·制备样品 | 第45页 |
·磁特性和微结构 | 第45-47页 |
·不同退火温度对Bi/FePt/C薄膜微结构和磁特性的影响 | 第47-49页 |
·制备样品 | 第47页 |
·磁特性和微结构 | 第47-49页 |
·样品微观形貌的研究 | 第49-52页 |
·本章小结 | 第52-53页 |
第5章 MgO/Au/MgO/FePt/Au磁性薄膜的制备、磁特性和微结构 | 第53-63页 |
·引言 | 第53-54页 |
·样品制备 | 第54-55页 |
·不同厚度Au中间层对MgO/Au/MgO/FePt/Au薄膜微结构和磁特性的影响 | 第55-57页 |
·不同厚度MgO层对MgO/Au/MgO/FePt/Au薄膜微结构和磁特性的影响 | 第57-60页 |
·不同退火温度对MgO/Au/MgO/FePt/Au薄膜微结构和磁特性的影响 | 第60-62页 |
·本章小结 | 第62-63页 |
结论 | 第63-65页 |
参考文献 | 第65-69页 |
致谢 | 第69页 |