| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 引言 | 第9-27页 |
| ·半导体光催化概论 | 第9-20页 |
| ·背景介绍 | 第9-10页 |
| ·半导体光催化原理 | 第10-13页 |
| ·面临的问题 | 第13页 |
| ·影响TiO_2 光催化性能的主要因素 | 第13-16页 |
| ·提高TiO_2 光催化性能的改性技术 | 第16-20页 |
| ·二氧化钛的制备 | 第20-22页 |
| ·二氧化钛制备方法的概述 | 第20-21页 |
| ·板钛矿型TiO_2 的制备方法 | 第21-22页 |
| ·TiO_2 表面的阴离子修饰 | 第22-25页 |
| ·氟离子对TiO_2 表面钛存在状态的影响 | 第22-23页 |
| ·TiO_2 表面氟离子的修饰对光催化反应的影响 | 第23-25页 |
| ·立题依据和研究方案 | 第25-27页 |
| 第二章 二氧化钛晶相的调控及光催化性能研究 | 第27-47页 |
| ·前言 | 第27-28页 |
| ·实验部分 | 第28-31页 |
| ·试剂与仪器 | 第28页 |
| ·催化剂的制备 | 第28-30页 |
| ·催化剂的表征 | 第30页 |
| ·光催化活性的测试 | 第30-31页 |
| ·结果与讨论 | 第31-45页 |
| ·X 射线衍射（XRD） | 第31-32页 |
| ·扫描电镜（SEM） | 第32-34页 |
| ·透射电镜（TEM） | 第34-35页 |
| ·样品的表面分析和价态分析 | 第35-39页 |
| ·固体漫反射（DRS） | 第39-40页 |
| ·X3B在TiO_2 表面的吸附 | 第40-41页 |
| ·样品的光催化活性分析 | 第41-45页 |
| ·小结 | 第45-47页 |
| 第三章 氟离子表面修饰对板钛矿型二氧化钛光活性的影响 | 第47-62页 |
| ·前言 | 第47-49页 |
| ·实验部分 | 第49-51页 |
| ·主要原料和试剂 | 第49页 |
| ·催化剂的制备 | 第49-50页 |
| ·光催化实验过程 | 第50-51页 |
| ·结果与讨论 | 第51-60页 |
| ·温度对板钛矿型二氧化钛的影响 | 第51-53页 |
| ·氟离子对X3B在二氧化钛表面吸附的影响 | 第53-54页 |
| ·光催化降解实验 | 第54-60页 |
| ·结论 | 第60-62页 |
| 结论 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 论文发表情况 | 第68页 |