| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 1 引言 | 第8-17页 |
| ·人工晶体生长技术 | 第8-13页 |
| ·熔体生长 | 第9-12页 |
| ·溶液生长 | 第12页 |
| ·气相生长 | 第12页 |
| ·固相生长 | 第12-13页 |
| ·提拉法晶体生长研究现状 | 第13-15页 |
| ·研究内容及意义 | 第15-17页 |
| ·内容 | 第15-16页 |
| ·意义 | 第16-17页 |
| 2 辐射换热及辐射模型选择 | 第17-34页 |
| ·辐射传热基本理论 | 第17-20页 |
| ·普朗克(Planck)定律 | 第18-19页 |
| ·斯蒂芬一玻尔兹曼(Stefen- Boltzman)定律 | 第19页 |
| ·基尔霍夫(Kirchhoff)定律 | 第19-20页 |
| ·热辐射传输方程 | 第20-21页 |
| ·辐射模型的选择 | 第21-31页 |
| ·辐射模型介绍 | 第21-23页 |
| ·计算结果及其分析 | 第23-31页 |
| ·晶体生长中的辐射计算 | 第31-34页 |
| 3 Boussinesq 近似在提拉法晶体生长中的应用 | 第34-38页 |
| ·数学模型 | 第34-36页 |
| ·结果与分析 | 第36-38页 |
| ·可压缩流模型与修正Boussinesq 近似模型 | 第36-37页 |
| ·Boussinesq 近似模型与可压缩流模型 | 第37-38页 |
| 4 提拉法晶体生长物理及数学模型 | 第38-49页 |
| ·熔体简化模型 | 第38-43页 |
| ·熔体的流场 | 第38-40页 |
| ·控制方程 | 第40-43页 |
| ·晶体生长全局模型 | 第43-49页 |
| ·控制方程 | 第43-44页 |
| ·相变界面与潜热释放 | 第44-47页 |
| ·物性参数与边界条件 | 第47-49页 |
| 5 数值计算方法和验证 | 第49-55页 |
| ·CFD 软件 Fluent 简介 | 第49-50页 |
| ·数值模拟在晶体生长中的应用 | 第50页 |
| ·数值方法和数值离散格式 | 第50-52页 |
| ·准静态假设 | 第52-53页 |
| ·网格有效性验证 | 第53-55页 |
| 6 计算结果及分析 | 第55-63页 |
| ·提拉法晶体生长熔体对流数值模拟 | 第55-59页 |
| ·浮力驱动自然对流 | 第55-56页 |
| ·表面张力流 | 第56-57页 |
| ·强迫对流 | 第57-59页 |
| ·提拉法晶体生长炉全局数值模拟 | 第59-63页 |
| ·熔体中纯自然对流时 | 第60-61页 |
| ·熔体中存在坩埚旋转强迫对流 | 第61-63页 |
| 7 结论与展望 | 第63-65页 |
| ·结论 | 第63页 |
| ·不足与展望 | 第63-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-70页 |
| 附录 | 第70页 |
