| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-32页 |
| ·自然界的超疏水现象 | 第9-13页 |
| ·超疏水的理论基础 | 第13-17页 |
| ·静态接触角 | 第13-14页 |
| ·Wenzel 模型 | 第14页 |
| ·Cassie 模型 | 第14-15页 |
| ·Wenzel 状态与Cassie 状态之间的关系 | 第15-16页 |
| ·接触角滞后 | 第16-17页 |
| ·滚动角 | 第17页 |
| ·超疏水表面的制备技术 | 第17-25页 |
| ·熔化-固化法 | 第17-18页 |
| ·等离子体处理法 | 第18-19页 |
| ·模板法 | 第19-20页 |
| ·电纺丝法 | 第20-21页 |
| ·一步浸泡法 | 第21-22页 |
| ·腐蚀法 | 第22-23页 |
| ·气相沉积法 | 第23-24页 |
| ·溶剂—非溶剂法 | 第24-25页 |
| ·微机械加工法 | 第25页 |
| ·超疏水表面技术存在问题、发展趋势及应用前景 | 第25-27页 |
| ·存在的问题 | 第25页 |
| ·发展趋势 | 第25-26页 |
| ·应用前景 | 第26-27页 |
| ·本论文的研究内容 | 第27-29页 |
| 参考文献 | 第29-32页 |
| 第二章 超疏水铝表面的制备 | 第32-46页 |
| ·引言 | 第32-33页 |
| ·实验部分 | 第33-34页 |
| ·试剂与仪器 | 第33页 |
| ·超疏水铝表面的制备 | 第33-34页 |
| ·表征 | 第34页 |
| ·结果与讨论 | 第34-43页 |
| ·三种溶液体系中铝片表面形貌 | 第34-39页 |
| ·超疏水铝表面的浸润性 | 第39-41页 |
| ·反应机理分析 | 第41-42页 |
| ·影响超疏水铝表面生长和浸润性的因素 | 第42页 |
| ·铝表面疏水性的形成分析 | 第42-43页 |
| ·结论 | 第43-44页 |
| 参考文献 | 第44-46页 |
| 第三章 超疏水高分子纳米结构的制备 | 第46-57页 |
| ·引言 | 第46页 |
| ·实验部分 | 第46-49页 |
| ·试剂与仪器 | 第46-47页 |
| ·AAO 模板的制备 | 第47-48页 |
| ·高分子模板的制备 | 第48页 |
| ·表征 | 第48-49页 |
| ·结果与讨论 | 第49-54页 |
| ·氧化铝及压印的高分子表面形貌 | 第49-52页 |
| ·聚合物表面的浸润性 | 第52-53页 |
| ·模板压印法的优缺点 | 第53页 |
| ·超疏水效果的理论分析 | 第53-54页 |
| ·结论 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-57页 |
| 在读期间发表论文目录 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |