中文摘要 | 第3-5页 |
英文摘要 | 第5-6页 |
1 绪论 | 第10-27页 |
1.1 磺胺类药物的污染现状及危害 | 第10-12页 |
1.1.1 磺胺类药物在我国的使用情况 | 第10页 |
1.1.2 磺胺类药物在环境中的危害 | 第10-11页 |
1.1.3 磺胺二甲基嘧啶的概况 | 第11-12页 |
1.2 半导体光催化技术概述与原理 | 第12-15页 |
1.2.1 半导体光催化技术概念 | 第12-13页 |
1.2.2 半导体光催化技术的基本原理 | 第13-15页 |
1.3 半导体光催化技术的应用 | 第15-17页 |
1.3.1 光催化分解水制氢气 | 第16页 |
1.3.2 光催化降解有机污染物 | 第16页 |
1.3.3 光催化剂抗菌 | 第16-17页 |
1.4 影响光催化反应效率的外在影响因素 | 第17-18页 |
1.4.1 温度对光催化的影响 | 第17页 |
1.4.2 光照条件对光催化的影响 | 第17页 |
1.4.3 pH对光催化的影响 | 第17-18页 |
1.4.4 添加剂对光催化的影响 | 第18页 |
1.5 改性纳米TiO_2光催剂的研究进展 | 第18-21页 |
1.5.1 贵金属沉积 | 第18-19页 |
1.5.2 表面光敏化 | 第19-20页 |
1.5.3 金属离子掺杂 | 第20页 |
1.5.4 光催化半导体的复合 | 第20页 |
1.5.5 非金属离子掺杂 | 第20-21页 |
1.6 g-C_3N_4/TiO_2复合光催化材料的研究 | 第21-24页 |
1.6.1 纳米TiO_2光催化材料 | 第21-22页 |
1.6.2 g-C_3N_4光催化材料 | 第22-23页 |
1.6.3 g-C_3N_4/TiO_2复合光催化材料 | 第23-24页 |
1.7 课题的提出、研究内容与意义 | 第24-27页 |
2 试验材料与方法 | 第27-35页 |
2.1 试验材料 | 第27-28页 |
2.2 试验方法 | 第28-32页 |
2.2.1 g-C_3N_4/TiO_2复合光催化材料的制备方法 | 第28-30页 |
2.2.2 复合光催化材料的表征方法 | 第30-32页 |
2.3 g-C_3N_4/TiO_2复合材料光催化性能试验 | 第32-33页 |
2.3.1 复合光催化材料光催化降解性能试验 | 第32-33页 |
2.3.2 复合材料的光催化降解性能影响因素试验 | 第33页 |
2.3.3 复合材料光催化机理探究试验 | 第33页 |
2.4 分析测试方法 | 第33-35页 |
3 g-C_3N_4/TiO_2复合光催化材料的制备及表征 | 第35-45页 |
3.1 制备条件对g-C_3N_4/TiO_2光催化降解效率的影响 | 第35-38页 |
3.1.1 三聚氰胺/TiO_2质量比的影响 | 第35-36页 |
3.1.2 煅烧温度的影响 | 第36-37页 |
3.1.3 不同煅烧时间的影响 | 第37-38页 |
3.2 g-C_3N_4/TiO_2复合光催化材料的表征结果 | 第38-45页 |
3.2.1 物相表征结果 | 第38-39页 |
3.2.2 表面官能团表征结果 | 第39-40页 |
3.2.3 可见光吸收利用率表征结果 | 第40-41页 |
3.2.4 材料表面特性表征结果 | 第41-43页 |
3.2.5 表面形貌和颗粒大小表征结果 | 第43-45页 |
4 g-C_3N_4/TiO_2对RhB的可见光降解 | 第45-49页 |
4.1 光催化降解动力学 | 第45页 |
4.2 初始溶液pH的影响 | 第45-46页 |
4.3 离子强度的影响 | 第46-47页 |
4.4 RhB的降解机理 | 第47-49页 |
5 g-C_3N_4/TiO_2对SMT的可见光降解 | 第49-56页 |
5.1 光催化降解动力学 | 第49-51页 |
5.2 初始溶液pH的影响 | 第51页 |
5.3 离子强度和温度的影响 | 第51-52页 |
5.4 重复使用次数的影响 | 第52-53页 |
5.5 SMT的降解机理 | 第53-56页 |
6 结论 | 第56-58页 |
6.1 结论 | 第56-57页 |
6.2 展望 | 第57-58页 |
致谢 | 第58-59页 |
参考文献 | 第59-67页 |
附录 | 第67页 |
A.作者在攻读硕士学位论文期间发表的论文 | 第67页 |
B.作者在攻读硕士学位论文期间参与的科研项目 | 第67页 |