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分子印迹聚合物敏感膜的电化学制备及应用

摘要第5-7页
Abstract第7-8页
第一章 绪论第11-26页
    1. 分子印迹技术第11页
    2. 分子印迹技术的研究进展第11-15页
        2.1 分子印迹技术的起源第11页
        2.2 分子印迹技术的原理第11-12页
        2.3 分子印迹技术的类型第12-13页
        2.4 分子印迹聚合物的制备方法第13-14页
        2.5 分子印迹聚合物的应用第14-15页
    3. 分子印迹电化学传感器的概述第15-19页
        3.1 分子印迹电化学传感器的制备方法第15-16页
        3.2 分子印迹电化学传感器的原理及分类第16-18页
        3.3 分子印迹电化学传感器的应用第18-19页
    4. 单壁碳纳米管在分析检测中的应用概述第19页
    5. 论文的指导思想和主要内容第19-21页
    参考文献第21-26页
第二章 还原性糖印迹聚邻苯二胺修饰玻碳电极的制备及应用第26-46页
    1 引言第26页
    2 实验部分第26-30页
        2.1 试剂第26页
        2.2 仪器第26-27页
        2.3 Imprinted MIP/GCE的制备第27-30页
    3. 结果与讨论第30-41页
        3.1 Imprinted MIP/GCE的表征第30-33页
            3.1.1 Imprinted MIP/GCE的表面形貌表征第30页
            3.1.2 Imprinted MIP-GCE的电化学表征第30-33页
        3.2 实验条件的优化第33-36页
            3.2.1 聚合过程中扫描圈数对印迹电极的影响第33-34页
            3.2.2 聚合过程中pH值对印迹电极的影响第34页
            3.2.3 培养时间对印迹电极的影响第34-36页
        3.3 伏安测定第36-39页
        3.4 Imprinted MIP/GCE的选择性、重现性和稳定性第39-40页
        3.5 实际样品检测第40-41页
    4. 结论第41-42页
    参考文献第42-46页
第三章 电位型还原性糖印迹聚间羟基苯硼酸及苯酚修饰玻碳电极的制备及应用第46-62页
    1 引言第46页
    2 实验部分第46-48页
        2.1 试剂第46-47页
        2.2 仪器第47页
        2.3 修饰电极的制备第47-48页
    3. 结果与讨论第48-58页
        3.1 Imprinted MIP/GCE的电化学表征第48-49页
        3.2 Imprinted MIP/GCE对模板分子的电位响应第49-50页
        3.3 实验条件的优化第50-51页
            3.3.1 功能单体摩尔比对印迹电极的影响第50页
            3.3.2 pH值对印迹电极的影响第50-51页
            3.3.3 洗脱时间对印迹电极的影响第51页
        3.4 电位测定第51-55页
        3.5 Imprinted MIP/GCE的选择性、重现性和稳定性第55-57页
        3.6 实际样品检测第57-58页
    4. 结论第58-59页
    参考文献第59-62页
第四章 Al~(3+)掺杂的分子印迹聚合物膜和碳纳米管修饰电极测定秋水仙碱第62-73页
    1 引言第62-63页
    2. 实验部分第63-64页
        2.1 试剂第63页
        2.2 仪器第63页
        2.3 印迹传感器的制备第63-64页
    3. 结果与讨论第64-69页
        3.1 秋水仙碱的电化学响应第64-65页
        3.2 PoPD/Al~(3+)/SWCNTs/GCE在洗脱前后的对COL的电化学响应第65-66页
        3.3 分子印迹聚合物的优化第66-67页
            3.3.1 A1~(3+)离子对印迹电极的影响及A1~(3+)量的优化第66-67页
            3.3.2 洗脱和培养时间的影响第67页
        3.4 线性范围与检出限第67-68页
        3.5 印迹传感器的重现性和抗干扰能力第68-69页
    4. 结论第69-70页
    参考文献第70-73页
附录第73-74页
致谢第74页

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