| 中文摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 氧化锌概述 | 第9-13页 |
| 1.1.1 氧化锌的基本性质和结构 | 第9页 |
| 1.1.2 氧化锌的制备 | 第9-13页 |
| 1.2 氧化锌的性能及应用 | 第13-15页 |
| 1.2.1 太阳能电池 | 第13页 |
| 1.2.2 光催化剂 | 第13页 |
| 1.2.3 气敏传感器 | 第13-14页 |
| 1.2.4 紫外光电子器件 | 第14页 |
| 1.2.5 场发射器件 | 第14-15页 |
| 1.3 氧化锌纳米材料的表征方法 | 第15-16页 |
| 1.3.1 扫描电子显微镜(SEM) | 第15页 |
| 1.3.2 X射线衍射仪(XRD) | 第15页 |
| 1.3.3 透射电子显微镜(TEM) | 第15-16页 |
| 1.3.4 场发射测试 | 第16页 |
| 1.4 本课题研究内容 | 第16-18页 |
| 1.4.1 本课题研究的目的及意义 | 第16-17页 |
| 1.4.2 本课题研究的主要内容 | 第17-18页 |
| 第二章 氧化锌的制备及场发射相关理论 | 第18-27页 |
| 2.1 电化学沉积法 | 第18-21页 |
| 2.1.1 电化学沉积系统 | 第18-19页 |
| 2.1.2 电化学沉积原理 | 第19页 |
| 2.1.3 电化学沉积氧化锌的研究进展 | 第19-21页 |
| 2.2 喷墨打印法 | 第21-25页 |
| 2.2.1 喷墨打印设备 | 第22-23页 |
| 2.2.2 喷墨打印基本原理 | 第23-24页 |
| 2.2.3 喷墨打印氧化锌的研究进展 | 第24-25页 |
| 2.3 场发射测试 | 第25-26页 |
| 2.3.1 场发射原理 | 第25-26页 |
| 2.3.2 场发射的主要性能指标 | 第26页 |
| 2.4 本章小结 | 第26-27页 |
| 第三章 电化学生长氧化锌及其场发射性能研究 | 第27-42页 |
| 3.1 实验药品及仪器 | 第27-28页 |
| 3.2 纳米氧化锌的电化学生长研究 | 第28-35页 |
| 3.2.1 电化学生长纳米氧化锌 | 第28-29页 |
| 3.2.2 沉积时间对纳米氧化锌形貌的影响 | 第29-33页 |
| 3.2.3 沉积电流对纳米氧化锌形貌的影响 | 第33-35页 |
| 3.3 纳米枝状氧化锌的生长机理分析 | 第35-36页 |
| 3.4 纳米氧化锌的场发射性能研究 | 第36-40页 |
| 3.4.1 沉积时间对纳米氧化锌场发射的影响 | 第36-38页 |
| 3.4.2 沉积电流对纳米氧化锌场发射的影响 | 第38-40页 |
| 3.4.3 纳米枝状氧化锌的场发射增强机理 | 第40页 |
| 3.5 本章小结 | 第40-42页 |
| 第四章 喷墨打印制备氧化锌薄膜及其性能研究 | 第42-59页 |
| 4.1 引言 | 第42页 |
| 4.2 氧化锌墨水的制备及性能分析 | 第42-51页 |
| 4.2.1 氧化锌墨水制备 | 第42-44页 |
| 4.2.2 氧化锌墨水的性能分析 | 第44-48页 |
| 4.2.3 氧化锌墨水喷墨液滴稳定性的理论分析 | 第48-51页 |
| 4.3 氧化锌薄膜的喷墨打印制备 | 第51-53页 |
| 4.4 喷墨打印氧化锌薄膜的性能分析 | 第53-58页 |
| 4.4.1 ITO表面处理对喷墨打印氧化锌薄膜的影响 | 第53-54页 |
| 4.4.2 墨水配方对喷墨打印氧化锌薄膜的影响 | 第54-56页 |
| 4.4.3 基板温度对喷墨打印氧化锌薄膜的影响 | 第56-57页 |
| 4.4.4 AFM测试表征 | 第57-58页 |
| 4.5 本章小结 | 第58-59页 |
| 第五章 氧化锌阵列的制备及其场发射性能研究 | 第59-72页 |
| 5.1 引言 | 第59页 |
| 5.2 喷墨打印/水热法制备氧化锌阵列及性能研究 | 第59-63页 |
| 5.2.1 氧化锌阵列的喷墨打印/水热法制备 | 第59-60页 |
| 5.2.2 喷墨打印/水热法制备氧化锌阵列的形貌表征 | 第60-62页 |
| 5.2.3 喷墨打印/水热法制备氧化锌阵列的场发射性能研究 | 第62-63页 |
| 5.3 喷墨打印/电沉积法制备氧化锌阵列及性能研究 | 第63-68页 |
| 5.3.1 氧化锌阵列的喷墨打印/电沉积法制备 | 第63-64页 |
| 5.3.2 喷墨打印/电沉积法制备氧化锌阵列的形貌表征 | 第64-66页 |
| 5.3.3 喷墨打印/电沉积法制备氧化锌阵列的场发射性能研究 | 第66-68页 |
| 5.4 氧化锌阵列的图形化生长机理和场发射机理 | 第68-71页 |
| 5.4.1 氧化锌阵列的图形化生长机理分析 | 第68-70页 |
| 5.4.2 氧化锌阵列的图形化场发射机理 | 第70-71页 |
| 5.5 本章小结 | 第71-72页 |
| 结论 | 第72-75页 |
| 参考文献 | 第75-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |
| 个人简介 | 第82-83页 |
| 攻读硕士期间的研究成果及发表的学术论文 | 第83页 |
