| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-23页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 半导体光催化 | 第10-14页 |
| 1.2.1 光催化技术 | 第10-11页 |
| 1.2.2 光催化基本原理 | 第11-14页 |
| 1.3 氮化碳材料概述 | 第14-18页 |
| 1.3.1 氮化碳材料研究及进展 | 第14-15页 |
| 1.3.2 氮化碳材料的基本性质 | 第15-18页 |
| 1.4 氮化碳材料的制备方法 | 第18-20页 |
| 1.4.1 g-C_3N_4的制备方法 | 第18-19页 |
| 1.4.2 β-C_3N_4的制备方法 | 第19-20页 |
| 1.5 氮化碳材料的研究及进展 | 第20-21页 |
| 1.5.1 g-C_3N_4的研究及进展 | 第20页 |
| 1.5.2 β-C_3N_4的研究及进展 | 第20-21页 |
| 1.6 本课题的研究内容和意义 | 第21-23页 |
| 第2章 超薄g-C_3N_4纳米片的快速制备与光催化性能 | 第23-37页 |
| 2.1 引言 | 第23-24页 |
| 2.2 实验 | 第24-27页 |
| 2.2.1 化学试剂 | 第24页 |
| 2.2.2 设备与仪器 | 第24-25页 |
| 2.2.3 g-C_3N_4的制备 | 第25页 |
| 2.2.4 表征方法 | 第25-27页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第27-35页 |
| 2.3.1 扫描电镜和原子力显微镜表征与分析 | 第27-28页 |
| 2.3.2 X射线衍射表征与分析 | 第28-29页 |
| 2.3.3 红外光谱表征与分析 | 第29-30页 |
| 2.3.4 紫外可见吸收光谱表征与分析 | 第30页 |
| 2.3.5 荧光光谱表征与分析 | 第30-31页 |
| 2.3.6 g-C_3N_4纳米片的形成机理 | 第31-32页 |
| 2.3.7 光催化性能 | 第32-35页 |
| 2.4 本章小结 | 第35-37页 |
| 第3章 β-C_3N_4@CuO纳米片的制备与光催化性能 | 第37-51页 |
| 3.1 引言 | 第37-38页 |
| 3.2 实验 | 第38-40页 |
| 3.2.1 化学试剂 | 第38-39页 |
| 3.2.2 设备与仪器 | 第39页 |
| 3.2.3 β-C_3N_4@CuO的制备 | 第39-40页 |
| 3.2.4 表征方法 | 第40页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第40-49页 |
| 3.3.1 X射线衍射表征与分析 | 第40-41页 |
| 3.3.2 红外光谱表征与分析 | 第41-42页 |
| 3.3.3 扫描电镜表征与分析 | 第42-43页 |
| 3.3.4 β-C_3N_4@CuO的生长机理 | 第43-45页 |
| 3.3.5 光催化性能 | 第45-47页 |
| 3.3.6 荧光光谱表征与分析 | 第47-48页 |
| 3.3.7 β-C_3N_4@CuO的光催化降解机理 | 第48-49页 |
| 3.4 本章小结 | 第49-51页 |
| 第4章 β-C_3N_4@Cu_2O纳米线的制备与光催化性能 | 第51-58页 |
| 4.1 引言 | 第51页 |
| 4.2 实验 | 第51-53页 |
| 4.2.1 化学试剂 | 第51-52页 |
| 4.2.2 设备与仪器 | 第52页 |
| 4.2.3 β-C_3N_4@Cu_2O的制备 | 第52-53页 |
| 4.2.4 表征方法 | 第53页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第53-57页 |
| 4.3.1 扫描电镜表征与分析 | 第53-54页 |
| 4.3.2 X射线衍射表征与分析 | 第54-55页 |
| 4.3.3 光催化性能 | 第55-57页 |
| 4.4 本章小结 | 第57-58页 |
| 结论与展望 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-68页 |
| 附录 A 攻读硕士学位期间发表的学术论文目录 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69页 |
