| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-26页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 纳米材料的奇特性质 | 第11-13页 |
| 1.3 WO_3相变性能 | 第13-18页 |
| 1.3.1 相变原理分析 | 第13页 |
| 1.3.2 相变过程分析 | 第13-16页 |
| 1.3.3 变色性能 | 第16-18页 |
| 1.4 一维氧化钨纳米材料的研究现状 | 第18-21页 |
| 1.5 化学气相沉积法的概况 | 第21-24页 |
| 1.5.1 气-液-固(VLS)生长机理 | 第22-23页 |
| 1.5.2 气-固(VS)生长机制 | 第23-24页 |
| 1.6 氧化钨纳米结构特性 | 第24-25页 |
| 1.7 本论文研究的内容和意义 | 第25-26页 |
| 第二章 制备形貌均匀的氧化钨纳米线 | 第26-33页 |
| 2.1 前言 | 第26-27页 |
| 2.2 实验 | 第27-32页 |
| 2.2.1 实验装置 | 第27页 |
| 2.2.2 实验方法 | 第27-28页 |
| 2.2.3 结果分析与讨论 | 第28-32页 |
| 2.3 小结 | 第32-33页 |
| 第三章 可控制备氧化钨纳米线 | 第33-45页 |
| 3.1 前言 | 第33-34页 |
| 3.2 不同制备条件对氧化钨纳米线形貌的影响 | 第34-45页 |
| 3.2.1 压强对合成氧化钨纳米线形貌的影响 | 第34-36页 |
| 3.2.2 探究源与基片的距离对氧化钨纳米线的影响 | 第36-39页 |
| 3.2.3 氧气的流量对合成氧化钨纳米线形貌的影响 | 第39-45页 |
| 第四章 不同直径的氧化钨纳米线的相变研究 | 第45-58页 |
| 4.1 前言 | 第45-46页 |
| 4.2 形貌表征 | 第46-49页 |
| 4.3 变温拉曼测试 | 第49-51页 |
| 4.4 尺寸更小的氧化钨纳米线的相变研究 | 第51-56页 |
| 4.4.1 氧化钨纳米线的形貌表征 | 第51-54页 |
| 4.4.2 变温拉曼测试 | 第54-56页 |
| 4.5 小结 | 第56-58页 |
| 第五章 结论与展望 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |